致谢 | 第4-5页 |
摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-9页 |
1 引言 | 第13-33页 |
1.1 红外技术的发展介绍 | 第13-17页 |
1.1.1 红外探测器的发展 | 第13-14页 |
1.1.2 短波红外InGaAs探测器的发展 | 第14-17页 |
1.2 偏振探测技术及其发展 | 第17-28页 |
1.2.1 偏振探测工作原理 | 第17-21页 |
1.2.2 偏振探测技术的国内外研究进展 | 第21-24页 |
1.2.3 微纳加工技术在偏振领域中的应用 | 第24-28页 |
1.3 红外偏振成像技术 | 第28-31页 |
1.3.1 红外波段偏振信息特点 | 第28-29页 |
1.3.2 红外分焦平面偏振探测研究进展 | 第29-31页 |
1.4 本论文的研究目的和主要内容 | 第31-33页 |
2 表面等离子激元基本理论 | 第33-45页 |
2.1 表面等离子激元相关概念 | 第33-34页 |
2.2 表面等离子激元定性分析 | 第34-36页 |
2.3 表面等离子激元定量分析 | 第36-41页 |
2.3.1 表面等离子激元的色散关系 | 第36-39页 |
2.3.2 表面等离子激元的特征长度 | 第39-41页 |
2.4 亚波长金属偏振光栅基本原理 | 第41-44页 |
2.5 本章小结 | 第44-45页 |
3 亚波长金属光栅偏振性能模拟 | 第45-59页 |
3.1 亚波长金属偏振光栅仿真模型建立 | 第45-49页 |
3.1.1 微纳结构模拟仿真方法简介 | 第45页 |
3.1.2 亚波长金属光栅的结构设计和仿真参数设定 | 第45-47页 |
3.1.3 不同亚波长金属光栅材料的比较 | 第47-49页 |
3.2 Metal grating/InP结构偏振性能模拟 | 第49-52页 |
3.3 Metal grating/SiO2/InP结构偏振性能模拟 | 第52-57页 |
3.3.1 光栅周期对偏振性能影响 | 第52-54页 |
3.3.2 光栅占空比和厚度对偏振性能影响 | 第54-56页 |
3.3.3 SiO2厚度对偏振性能影响 | 第56-57页 |
3.4 本章小结 | 第57-59页 |
4 短波红外波段偏振测试系统 | 第59-77页 |
4.1 引言 | 第59页 |
4.2 亚波长金属光栅偏振片测试系统 | 第59-73页 |
4.2.1 测试对象 | 第59-60页 |
4.2.2 测试方案设计 | 第60-65页 |
4.2.3 测试系统搭建 | 第65-68页 |
4.2.4 亚波长金属光栅偏振片测试系统校准 | 第68-73页 |
4.3 偏振探测器测试系统 | 第73-76页 |
4.3.1 测试对象 | 第73页 |
4.3.2 测试方案设计 | 第73-75页 |
4.3.3 InGaAs偏振探测器的测试系统校准 | 第75-76页 |
4.4 本章小结 | 第76-77页 |
5 亚波长金属光栅偏振片的制备与性能研究 | 第77-89页 |
5.1 亚波长金属偏振光栅制备工艺 | 第77-78页 |
5.2 Metal Grating/InP结构测试与分析 | 第78-82页 |
5.3 Metal Grating/SiO2/InP结构测试与分析 | 第82-88页 |
5.3.1 Au-S-1 偏振性能测试与分析 | 第82-85页 |
5.3.2 Al-S-1 偏振性能测试与分析 | 第85-88页 |
5.4 本章小结 | 第88-89页 |
6 InGaAs偏振探测器原型器件制备与性能研究 | 第89-107页 |
6.1 偏振探测器原型器件的结构设计 | 第89-90页 |
6.2 偏振探测器原型器件的制备工艺 | 第90-94页 |
6.2.1 光栅与探测器工艺兼容性研究 | 第90-92页 |
6.2.2 偏振探测器的工艺制备 | 第92-94页 |
6.3 偏振探测器原型器件的性能测试与分析 | 第94-104页 |
6.3.1 InGaAs偏振探测器的偏振性能测试 | 第94-103页 |
6.3.2 InGaAs偏振探测器的光电性能测试 | 第103-104页 |
6.4 本章小结 | 第104-107页 |
7 全文总结与展望 | 第107-111页 |
7.1 全文总结 | 第107-109页 |
7.2 展望 | 第109-111页 |
参考文献 | 第111-119页 |
作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第119页 |