| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 Al_2O_3陶瓷和金属Ti的性质 | 第10-12页 |
| 1.2.1 Al_2O_3陶瓷的性质 | 第10-11页 |
| 1.2.2 Ti的性质 | 第11-12页 |
| 1.3 Al_2O_3陶瓷和金属Ti的连接现状 | 第12-15页 |
| 1.3.1 Al_2O_3陶瓷和金属Ti的扩散连接 | 第12-13页 |
| 1.3.2 Al_2O_3陶瓷和金属Ti的钎焊连接 | 第13-14页 |
| 1.3.3 陶瓷和金属连接所面临的挑战 | 第14-15页 |
| 1.4 陶瓷表面金属化的方式 | 第15-17页 |
| 1.5 生物相容性金属钎料的研究现状 | 第17-20页 |
| 1.6 国内外文献综述简析 | 第20-21页 |
| 1.7 本课题的主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 试验材料及方法 | 第22-27页 |
| 2.1 试验材料 | 第22-24页 |
| 2.1.1 连接母材与钎料 | 第22-23页 |
| 2.1.2 磁控溅射靶材 | 第23-24页 |
| 2.2 试验设备与工艺 | 第24-25页 |
| 2.2.1 磁控溅射镀膜设备 | 第24-25页 |
| 2.2.2 焊接设备 | 第25页 |
| 2.3 材料表征及性能测试 | 第25-27页 |
| 2.3.1 物相分析 | 第25页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第25-26页 |
| 2.3.3 力学性能测试 | 第26-27页 |
| 第3章 Al_2O_3陶瓷与金属Ti的磁控溅射表面改性研究 | 第27-41页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 磁控溅射参数研究 | 第27-34页 |
| 3.2.1 溅射功率和溅射时间与溅射沉积薄膜厚度的关系 | 第27-32页 |
| 3.2.2 其它工艺参数与溅射沉积薄膜厚度的关系 | 第32-34页 |
| 3.3 磁控溅射沉积金属薄膜的表征 | 第34-37页 |
| 3.3.1 磁控溅射沉积金属薄膜的XRD表征 | 第34-36页 |
| 3.3.2 溅射沉积金属薄膜的表面粗糙度 | 第36-37页 |
| 3.4 Au在磁控溅射沉积Ti、Nb、Mo金属薄膜表面的润湿性试验 | 第37-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 Al_2O_3陶瓷和金属Ti的连接 | 第41-62页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 Al_2O_3陶瓷和金属Ti的连接 | 第41-48页 |
| 4.2.1 Ti、Nb、Mo纯金属材料之间的连接 | 第41-44页 |
| 4.2.2 Al_2O_3陶瓷表面分别溅射金属Ti、Nb、Mo薄膜后的连接 | 第44-47页 |
| 4.2.3 Al_2O_3陶瓷表面溅射金属薄膜后与Ti的连接 | 第47页 |
| 4.2.4 Al_2O_3陶瓷与金属Ti表面溅射沉积金属薄膜之后的连接 | 第47-48页 |
| 4.3 Al_2O_3和Ti表面溅射沉积单层金属Mo的连接 | 第48-57页 |
| 4.3.1 Al_2O_3和Ti连接接头的典型界面组织 | 第49-53页 |
| 4.3.2 不同厚度的金属Mo层对Al_2O_3和Ti接头界面组织结构的影响 | 第53-54页 |
| 4.3.3 连接温度对Al_2O_3和Ti接头界面组织结构的影响 | 第54-56页 |
| 4.3.4 保温时间对Al_2O_3和Ti接头界面组织结构的影响 | 第56-57页 |
| 4.4 Al_2O_3和Ti表面溅射Ti/Mo双金属层之后的连接 | 第57-61页 |
| 4.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 第5章 Al_2O_3陶瓷和金属Ti连接的力学性能 | 第62-70页 |
| 5.1 引言 | 第62页 |
| 5.2 表面沉积金属Mo后Al_2O_3/Ti接头的力学性能 | 第62-65页 |
| 5.3 Al_2O_3表面沉积Ti/Mo后与沉积Mo的金属Ti钎焊接头的力学性能 | 第65-67页 |
| 5.4 磁控溅射参数对Al_2O_3/Ti钎焊接头力学性能的影响 | 第67-68页 |
| 5.5 本章小结 | 第68-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
