基于连续激光超分辨成像技术的可控一致性纳米结构的制造
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| 1.1 选题背景 | 第7-8页 |
| 1.2 国内外的发展状况 | 第8-10页 |
| 1.3 受激发射损耗显微镜的原理 | 第10-11页 |
| 1.4 主要研究内容 | 第11-13页 |
| 第二章 受激发射损耗显微镜系统的搭建 | 第13-20页 |
| 2.1 超分辨系统的结构 | 第14-15页 |
| 2.2 消激发光的调制 | 第15-17页 |
| 2.3 激发光和消激发光的耦合 | 第17-19页 |
| 2.4 本章小结 | 第19-20页 |
| 第三章 数值模拟消激发光的基本像差和相位调制 | 第20-32页 |
| 3.1 数值模拟计算理论 | 第20-23页 |
| 3.2 综合像差畸变、球差和场曲的数值模拟 | 第23-26页 |
| 3.3 五种偏振作为消激发光的相位调制的模拟计算 | 第26-30页 |
| 3.4 本章小结 | 第30-32页 |
| 第四章 基于超分辨系统的纳米加工 | 第32-48页 |
| 4.1 纳米加工系统的原理 | 第32-33页 |
| 4.2 光刻胶的制样 | 第33-35页 |
| 4.2.1 基片的清洗 | 第33-34页 |
| 4.2.2 光刻胶的匀胶 | 第34-35页 |
| 4.2.3 纳米加工 | 第35页 |
| 4.2.4 光刻样品的显影 | 第35页 |
| 4.3 用405nm激光器进行的纳米加工 | 第35-40页 |
| 4.4 用532nm激光器的纳米加工 | 第40-47页 |
| 4.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 总结与展望 | 第48-50页 |
| 总结 | 第48-49页 |
| 展望 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
