| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第10页 |
| 1.2 铜氧化物半导体及其光电催化性能 | 第10-12页 |
| 1.2.1 Cu_2O的光电催化性能 | 第10-11页 |
| 1.2.2 CuO的光电催化性能 | 第11页 |
| 1.2.3 复合氧化物半导体的光电催化性能 | 第11-12页 |
| 1.3 黄铜表面的处理及其应用 | 第12-14页 |
| 1.4 黄铜的电化学氧化 | 第14-15页 |
| 1.5 铜的电化学阳极氧化 | 第15-18页 |
| 1.5.1 不同电化学方法对铜的阳极氧化的影响 | 第15-16页 |
| 1.5.2 电解液温度对铜的阳极氧化的影响 | 第16页 |
| 1.5.3 碱性溶液中研究铜的阳极氧化 | 第16-18页 |
| 1.5.3.1 碱性溶液中铜的阳极氧化产物 | 第16-17页 |
| 1.5.3.2 Cu_2O形成及一价铜离子的影响 | 第17页 |
| 1.5.3.3 CuO、Cu(OH)_2或其他铜氧化物的形成 | 第17-18页 |
| 1.6 本文的主要工作 | 第18-19页 |
| 第二章 实验部分 | 第19-24页 |
| 2.1 实验材料及试剂 | 第19页 |
| 2.2 实验仪器 | 第19页 |
| 2.3 基底预处理 | 第19-20页 |
| 2.3.1 裁剪 | 第20页 |
| 2.3.2 机械打磨 | 第20页 |
| 2.3.3 清洗 | 第20页 |
| 2.4 样品的制备 | 第20-22页 |
| 2.4.1 反应装置 | 第20-21页 |
| 2.4.2 阳极氧化和高温氧化的对比实验 | 第21页 |
| 2.4.3 不同NaOH浓度阳极氧化黄铜 | 第21页 |
| 2.4.4 不同电解液温度阳极氧化黄铜 | 第21-22页 |
| 2.5 薄膜的结构、形貌、光电化学性能及成分分析 | 第22-23页 |
| 2.5.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第22页 |
| 2.5.2 激光拉曼散射光谱(Raman) | 第22页 |
| 2.5.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第22-23页 |
| 2.5.4 透射电子显微镜(TEM) | 第23页 |
| 2.6 薄膜的光电性能测试 | 第23-24页 |
| 第三章 恒电流阳极氧化和高温氧化对黄铜的影响及其光电性能 | 第24-32页 |
| 3.1 引言 | 第24-25页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第25-31页 |
| 3.2.1 XRD结构分析 | 第25-27页 |
| 3.2.2 表面Raman分析 | 第27-28页 |
| 3.2.3 SEM形貌分析 | 第28-30页 |
| 3.2.4 可见光光电流测试 | 第30-31页 |
| 3.3 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 NaOH浓度对黄铜阳极氧化的影响 | 第32-42页 |
| 4.1 引言 | 第32-33页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第33-41页 |
| 4.2.1 SEM形貌分析 | 第33-34页 |
| 4.2.2 XRD结构分析 | 第34-35页 |
| 4.2.3 表面Raman分析 | 第35-36页 |
| 4.2.4 可见光光电流测试 | 第36-38页 |
| 4.2.5 NaOH浓度对样品形成机理探究 | 第38-41页 |
| 4.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 温度对黄铜阳极氧化的影响 | 第42-48页 |
| 5.1 引言 | 第42页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第42-47页 |
| 5.2.1 表面Raman分析 | 第43-44页 |
| 5.2.2 SEM形貌分析 | 第44-45页 |
| 5.2.3 可见光光电流测试 | 第45-46页 |
| 5.2.4 电解液温度对阳极氧化膜的形成过程初探 | 第46-47页 |
| 5.3 本章小结 | 第47-48页 |
| 第六章 不同还原条件修饰纳米片状氧化铜 | 第48-55页 |
| 6.1 引言 | 第48页 |
| 6.2 结果与讨论 | 第48-54页 |
| 6.2.1 电化学阴极还原 | 第48-52页 |
| 6.2.2 葡萄糖还原 | 第52-54页 |
| 6.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第七章 总结与展望 | 第55-57页 |
| 7.1 总结 | 第55-56页 |
| 7.2 展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第66-69页 |