| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 引言 | 第12-14页 |
| 1 文献综述 | 第14-28页 |
| 1.1 半导体催化技术的简述 | 第14-21页 |
| 1.1.1 半导体光催化技术 | 第14页 |
| 1.1.2 半导体光催化机理 | 第14-17页 |
| 1.1.3 光催化半导体材料的应用 | 第17-20页 |
| 1.1.4 半导体催化材料的发展简述 | 第20-21页 |
| 1.2 对Bi_2WO_6光催化剂的研究 | 第21-26页 |
| 1.2.1 Bi_2WO_6的结构与性质 | 第21-22页 |
| 1.2.2 Bi_2WO_6的制备方法及光催化性能研究 | 第22-25页 |
| 1.2.3 Bi_2WO_6光催化的主要影响因素 | 第25-26页 |
| 1.3 课题的立题依据及研究内容 | 第26-28页 |
| 1.3.1 课题的建立 | 第26页 |
| 1.3.2 内容的研究 | 第26-28页 |
| 2 实验 | 第28-34页 |
| 2.1 试剂及仪器 | 第28-29页 |
| 2.1.1 化学试剂 | 第28页 |
| 2.1.2 仪器设备 | 第28-29页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第29-30页 |
| 2.3 光催化还原CO_2实验 | 第30-31页 |
| 2.4 光催化剂表征 | 第31-32页 |
| 2.4.1 热重分析(TG-DTG) | 第31页 |
| 2.4.2 X射线衍射分析(XRD) | 第31-32页 |
| 2.4.3 紫外-可见漫反射分析(UV-Vis DRS) | 第32页 |
| 2.4.4 X射线能谱仪(EDS) | 第32页 |
| 2.4.5 扫描电子显微镜(SEM) | 第32页 |
| 2.5 产物的表征 | 第32-34页 |
| 2.5.1 气质联用仪(GC-MS) | 第32-34页 |
| 3 Bi_2WO_6的光催化性能研究 | 第34-48页 |
| 3.1 实验结果与讨论 | 第34-39页 |
| 3.1.1 TG-DTG分析 | 第34-35页 |
| 3.1.2 XRD分析 | 第35-37页 |
| 3.1.3 SEM分析 | 第37页 |
| 3.1.4 EDS分析 | 第37-38页 |
| 3.1.5 UV-Vis DRS分析 | 第38-39页 |
| 3.2 光催化产物的表征与分析 | 第39-42页 |
| 3.2.1 气质联用仪表征和分析(GC-MS) | 第39-42页 |
| 3.3 光催化二氧化碳活性研究 | 第42-46页 |
| 3.3.1 煅烧温度对催化活性的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.2 催化剂的量与催化活性的关系 | 第43-44页 |
| 3.3.3 CO_2流量的影响 | 第44-45页 |
| 3.3.4 反应温度的影响 | 第45-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 4 光催化还原CO_2的机理探讨 | 第48-54页 |
| 4.1 光催化还原CO_2的研究历程 | 第48-50页 |
| 4.2 Bi_2WO_6催化还原CO_2的机理 | 第50-52页 |
| 4.3 协同效应对催化还原CO_2反应的影响 | 第52-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 5 结论与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 结论 | 第54页 |
| 5.2 展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 作者简介 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64页 |