金属催化非晶碳转变石墨烯的晶化调控及生长机理研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-14页 |
| 1.1.1 石墨烯概述 | 第10-12页 |
| 1.1.2 非晶碳概述 | 第12-14页 |
| 1.2 金属催化非晶碳转变石墨烯方法的研究现状 | 第14-19页 |
| 1.3 课题研究意义及研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验与表征 | 第20-27页 |
| 2.1 制备方法 | 第20-25页 |
| 2.1.1 非晶碳膜的沉积设备及制备过程 | 第20-22页 |
| 2.1.2 金属催化剂薄膜的沉积设备及制备过程 | 第22-23页 |
| 2.1.3 退火设备及实验过程 | 第23-25页 |
| 2.2 表征方法 | 第25-27页 |
| 2.2.1 拉曼光谱 | 第25页 |
| 2.2.2 X射线光电子能谱仪 | 第25-26页 |
| 2.2.3 X射线衍射仪 | 第26页 |
| 2.2.4 辉光放电光谱仪 | 第26页 |
| 2.2.5 光谱型椭偏仪 | 第26页 |
| 2.2.6 扫描探针显微镜 | 第26页 |
| 2.2.7 电子显微镜 | 第26-27页 |
| 第3章 初步工艺优化 | 第27-39页 |
| 3.1 实验部分 | 第27-28页 |
| 3.2 Cu作催化剂制备石墨烯 | 第28-34页 |
| 3.2.1 退火温度的影响 | 第28-29页 |
| 3.2.2 退火时间的影响 | 第29-31页 |
| 3.2.3 Cu厚度的影响 | 第31-33页 |
| 3.2.4 非晶碳种类的影响 | 第33-34页 |
| 3.3 Ni作催化剂制备石墨烯 | 第34-39页 |
| 3.3.1 退火温度的影响 | 第34-36页 |
| 3.3.2 非晶碳种类的影响 | 第36-39页 |
| 第4章 Ni催化ta-C转变石墨烯研究 | 第39-58页 |
| 4.1 实验部分 | 第39页 |
| 4.2 沉积态薄膜的结构及形貌 | 第39-43页 |
| 4.3 高温（750℃~1000℃）制备石墨烯 | 第43-50页 |
| 4.3.1 氩气气氛下制备石墨烯 | 第43-47页 |
| 4.3.2 真空条件下制备石墨烯 | 第47-50页 |
| 4.4 低温（200℃~600℃）制备石墨烯 | 第50-58页 |
| 4.4.1 氩气气氛下制备石墨烯 | 第50-51页 |
| 4.4.2 真空气氛下制备石墨烯 | 第51-58页 |
| 第5章 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 在学研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
