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新型二维材料的自旋极化、量子自旋霍尔效应和半导体性质的电子结构及调控

中文摘要第12-15页
Abstract第15-17页
符号说明第18-19页
第一章 绪论第19-29页
    1.1 引言第19页
    1.2 二维纳米材料第19-20页
    1.3 二维纳米材料的应用第20-24页
        1.3.1 二维纳米材料的自旋电子学应用第21-22页
        1.3.2 二维纳米材料中的量子自旋霍尔效应第22-23页
        1.3.3 二维纳米材料半导体性质的电子结构与调控第23-24页
    1.4 本论文的研究内容和结论第24-25页
    参考文献第25-29页
第二章 第一性原理计算方法和软件介绍第29-39页
    2.1 第一性原理计算简介第29页
    2.2 多粒子体系的薛定谔方程及其求解第29-32页
        2.2.1 多粒子体系薛定谔方程第29-30页
        2.2.2 Born-Oppenheimer近似第30-31页
        2.2.3 Hartree-Fock近似第31-32页
    2.3 密度泛函理论第32-35页
        2.3.1 Thomas-Fermi模型第32-33页
        2.3.2 Hohenberg-Kohn定理第33页
        2.3.3 Kohn-Sham方程第33-35页
    2.4 几种常用的近似密度泛函的显表达式第35-38页
        2.4.1 局域密度近似(LDA)第35-36页
        2.4.2 广义梯度近似(GGA)第36页
        2.4.3 杂化密度泛函第36-37页
        2.4.4 LDA (GGA)+U方法第37-38页
    2.5 本论文中使用的第一性原理计算软件包介绍第38页
    参考文献第38-39页
第三章 二维纳米材料的电子结构和自旋极化性质研究第39-61页
    3.1 二维蜂窝状过渡金属单层的d态Dirac点以及自旋极化性质调控第39-51页
        3.1.1 实验和理论研究背景第39-41页
        3.1.2 计算方法第41页
        3.1.3 结果和讨论第41-48页
            3.1.3.1 蜂窝状TM单层的几何结构第41-42页
            3.1.3.2 TM单层的能带结构和自旋极化性质第42-44页
            3.1.3.3 TM单层的d态Dirac点及其应力调控第44-45页
            3.1.3.4 铁磁性TM单层的居里温度第45-48页
        3.1.4 小结第48页
        参考文献第48-51页
    3.2 过渡金属无机纳米分子链[(Ge_5) TM]_∞的自旋极化性质第51-61页
        3.2.1 实验和理论研究背景第51-52页
        3.2.2 计算方法第52-53页
        3.2.3 结果与讨论第53-57页
            3.2.3.1 [(Ge_5)TM]_∞的几何结构第53-54页
            3.2.3.2 [(Ge_5)TM]_∞的电子结构和自旋极化性质第54-57页
        3.2.4 结论第57页
        参考文献第57-61页
第四章 二维纳米材料中的量子自旋霍尔效应研究第61-97页
    4.1 T1基二维单层的量子自旋霍尔效应以及自旋劈裂第61-72页
        4.1.1 实验和理论研究背景第61-63页
        4.1.2 计算方法第63页
        4.1.3 结果与讨论第63-69页
            4.1.3.1 g-TlA的几何结构与稳定性第63-64页
            4.1.3.2 g-TlA的能带结构及能带反转机制第64-67页
            4.1.3.3 g-TlA的拓扑边缘态以及自旋劈裂第67-69页
        4.1.4 结论第69页
        参考文献第69-72页
    4.2 TMC_6 (TM=Mo和W) kagome单层中的量子自旋霍尔效应与各项异性自旋劈裂第72-84页
        4.2.1 实验和理论研究背景第72-73页
        4.2.2 计算方法第73-74页
        4.2.3 结果和讨论第74-80页
            4.2.3.1 TMC_6 kagome晶格的几何结构与成键第74-76页
            4.2.3.2 TMC_6单层的能带结构和SOC引入的能带反转第76-79页
            4.2.3.3 TMC_6单层中各向异性的自旋劈裂第79-80页
        4.2.4 结论第80-81页
        参考文献第81-84页
    4.3 GeI/MoTe_2二维复合纳米体系中的量子自旋霍尔效应第84-97页
        4.3.1 实验和理论研究背景第84-86页
        4.3.2 计算方法第86页
        4.3.3 结果与讨论第86-93页
            4.3.3.1 GeI/MoTe_2体系的稳定堆积构型第86-89页
            4.3.3.2 GeI/MoTe_2体系的能带结构和量子自旋霍尔效应第89-91页
            4.3.3.3 GeI/MoTe_2体系的载流子迁移率第91-93页
        4.3.4 结论第93页
        参考文献第93-97页
第五章 二维纳米半导体及其复合体系的电子结构与调控第97-143页
    5.1 Graphene/g-C_3N_4复合二维纳米材料体系的电子结构与能带调控第97-108页
        5.1.1 实验和理论研究背景第97-98页
        5.1.2 计算方法第98-99页
        5.1.3 结果和讨论第99-105页
            5.1.3.1 Graphene/g-C_3N_4的几何堆积构型第99-101页
            5.1.3.2 Graphene/g-C_3N_4的电子结构及其外电场的调控第101-105页
        5.1.4 结论第105页
        参考文献第105-108页
    5.2 Type-Ⅱ二维纳米材料异质结MoS_2/TM_2CO_2 (TM=Ti、Zr和Hf)的能带结构与调控第108-119页
        5.2.1 实验和理论研究背景第108-109页
        5.2.2 计算方法第109-110页
        5.2.3 结果和讨论第110-115页
            5.2.3.1 MoS_2和TM_2CO_2单层体系的几何结构和电子性质第110-112页
            5.2.3.2 MoS_2/TM_2CO_2体系的电子结构和调控第112-115页
        5.2.4 结论第115-116页
        参考文献第116-119页
    5.3 新型Si基五元环二维纳米单层的电子结构及在光解水中的应用第119-131页
        5.3.1 实验和理论研究背景第119-120页
        5.3.2 计算方法第120-122页
        5.3.3 结果和讨论第122-128页
            5.3.3.1 p-SiX单层的几何结构与稳定性第122-123页
            5.3.3.2 p-SiX单层的电子结构第123-127页
            5.3.3.3 p-SiC在光催化分解水中的应用第127-128页
        5.3.4 结论第128页
        参考文献第128-131页
    5.4 新型无机非金属类DNA螺旋纳米分子链的半导体性质及其在光解水中的应用第131-143页
        5.4.1 实验和理论研究背景第131-132页
        5.4.2 计算方法第132-133页
        5.4.3 结果和讨论第133-141页
            5.4.3.1 双螺旋XYP体系的几何结构与成键类型第133-135页
            5.4.3.2 XYP三维纳米阵列与一维纳米链的能带结构第135-138页
            5.4.3.3 XYP纳米链在光催化分解水中的应用第138-141页
        5.4.4 结论第141页
        参考文献第141-143页
第六章 总结与展望第143-147页
    6.1 主要结论与创新点第143-145页
    6.2 展望第145-147页
致谢第147-149页
攻读学位期间发表的学术论文目录以及获奖等情况第149-155页
附录:攻读博士期间所发表的英文论文(原文)第155-172页
学位论文评阅及答辩情况表第172页

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