| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 选题背景 | 第10-11页 |
| 1.2 半导体光催化技术 | 第11-16页 |
| 1.2.1 半导体光催化基本原理 | 第11页 |
| 1.2.2 光催化技术的应用 | 第11-13页 |
| 1.2.3 半导体光催化剂的改性 | 第13-16页 |
| 1.3 Ga_2O_3光催化简介 | 第16-18页 |
| 1.3.1 Ga_2O_3的性质 | 第16页 |
| 1.3.2 Ga_2O_3在光催化中的应用 | 第16-17页 |
| 1.3.3 Ga_2O_3的改性 | 第17-18页 |
| 1.4 硝基咪唑抗生素类污染物的研究进展 | 第18-21页 |
| 1.4.1 抗生素的来源和危害 | 第18-19页 |
| 1.4.2 硝基咪唑抗生素的降解 | 第19-20页 |
| 1.4.3 罗硝唑简介 | 第20-21页 |
| 1.5 研究内容及意义 | 第21-23页 |
| 第二章 光还原法制备Ag、Pt、Pd改性Ga_2O_3降解罗硝唑的研究 | 第23-35页 |
| 2.1 实验材料与方法 | 第23-25页 |
| 2.1.1 实验试剂与仪器 | 第23-24页 |
| 2.1.2 材料的制备 | 第24页 |
| 2.1.3 光催化反应装置和实验 | 第24-25页 |
| 2.2 材料的表征方法 | 第25-26页 |
| 2.3 表征结果分析 | 第26-32页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第26-27页 |
| 2.3.2 场发射扫描电镜(FESEM)及元素分布分析(mapping) | 第27-30页 |
| 2.3.3 透射电镜分析(TEM) | 第30-31页 |
| 2.3.4 紫外可见漫反射分析(UV-vis DRS) | 第31-32页 |
| 2.4 光催化性能研究 | 第32-34页 |
| 2.4.1 罗硝唑的光催化降解研究 | 第32-33页 |
| 2.4.2 Ag、Pt、Pd沉积Ga_2O_3光催化降解罗硝唑机理分析 | 第33-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 化学沉淀法制备银、铂、钯金属氧化物改性Ga_2O_3降解罗硝唑的研究 | 第35-45页 |
| 3.1 实验材料与方法 | 第35-36页 |
| 3.1.1 实验试剂与仪器 | 第35-36页 |
| 3.1.2 材料的制备 | 第36页 |
| 3.1.3 光催化反应和装置 | 第36页 |
| 3.2 材料的表征方法 | 第36页 |
| 3.3 表征结果分析 | 第36-40页 |
| 3.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第36-37页 |
| 3.3.2 场发射扫面电镜分析(FESEM) | 第37-38页 |
| 3.3.3 透射电镜分析(TEM) | 第38-39页 |
| 3.3.4 紫外可见漫反射分析(UV-vis DRS) | 第39-40页 |
| 3.4 光催化性能研究 | 第40-44页 |
| 3.4.1 罗硝唑的光催化降解研究 | 第40-41页 |
| 3.4.2 金属氧化物负载Ga_2O_3光催化机理分析 | 第41-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 结论与建议 | 第45-47页 |
| 4.1 结论 | 第45-46页 |
| 4.2 未来工作的建议 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 攻读学位期间取得的成果情况 | 第53页 |
