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硅基纳米异质结生长机理及其电磁性质调控

摘要第1-9页
Abstract第9-11页
第一章 绪论第11-17页
   ·引言第11-12页
   ·研究现状第12-15页
   ·研究内容第15-17页
第二章 理论基础第17-25页
   ·基态密度泛函理论方法第17-21页
     ·Thomas-Fermi模型第17-18页
     ·Hohenberg-Kohn定理第18-19页
     ·Kohn-Sham方程第19-21页
   ·近似密度泛函第21-22页
     ·局域密度近似 (Local Density Approximation)第21-22页
     ·广义梯度近似( Generalized Gradient Approximation)第22页
   ·平面波基组和赝势第22-23页
   ·量子自旋霍尔效应与Z_2不变量第23-25页
第三章 惰性衬底硅烷、锗烷对硅烯电子性质的影响第25-33页
   ·硅烯/硅烷异质结的本征性质第25-28页
   ·硅烯/锗烷异质结的本征性质第28-29页
   ·双轴应力与层间距对异质结电子性质的影响第29-31页
   ·本章小节第31-33页
第四章 锗烷衬底对锗烯性质的影响第33-41页
   ·锗烯/锗烷异质结的本征性质第33-37页
   ·外加电场与双轴应力对异质结电子性质的影响第37-39页
   ·本章小节第39-41页
第五章 乙炔基及其衍生物修饰锡烯的量子性质调控第41-51页
   ·乙炔基及其衍生物修饰锡烯本征性质的研究第41-43页
   ·双轴应力诱导拓扑态过渡效应的研究第43-48页
   ·本章小节第48-51页
第六章 功能化修饰锑化铊的新奇量子态调控第51-61页
   ·氢以及卤族官能团修饰锑化铊本征性质的研究第51-57页
   ·外部因素对功能化锑化铊电子性质的影响第57-59页
   ·本章小节第59-61页
第七章 结论与展望第61-63页
参考文献第63-69页
致谢第69-71页
附录第71-73页

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