中文摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第1章 绪论 | 第9-25页 |
·引言 | 第9页 |
·半导体光催化技术 | 第9-11页 |
·半导体光催化技术简介 | 第9页 |
·可见光催化技术的应用前景 | 第9-10页 |
·半导体催化的原理 | 第10-11页 |
·半导体光催化剂 | 第11-13页 |
·半导体光催化剂的种类 | 第11-12页 |
·可见光响应半导体光催化剂研究的发展现状 | 第12-13页 |
·纳米TiO_2 光催化剂的研究 | 第13-19页 |
·纳米TiO_2 的晶体结构 | 第13-14页 |
·纳米TiO_2 的应用 | 第14-15页 |
·纳米TiO_2 的合成方法 | 第15-17页 |
·拓宽TiO_2 光响应范围的方法 | 第17-19页 |
·BiVO_4 光催化剂的研究 | 第19-21页 |
·BiVO_4 的晶体结构 | 第19-20页 |
·BiVO_4 的应用 | 第20页 |
·BiVO_4 光催化剂应用的瓶颈因素 | 第20-21页 |
·课题的立项依据及研究的内容 | 第21-25页 |
·课题的立题依据 | 第21-22页 |
·课题的研究内容及意义 | 第22-25页 |
第2章 实验材料及实验方法 | 第25-33页 |
·实验试剂和仪器 | 第25-26页 |
·实验试剂 | 第25页 |
·实验仪器 | 第25-26页 |
·催化剂合成方案 | 第26-27页 |
·非金属离子掺杂TiO_2 的合成 | 第26-27页 |
·小粒子尺寸BiVO_4 的合成 | 第27页 |
·催化剂的表征方法 | 第27-31页 |
·X-射线衍射 | 第27-28页 |
·UV-Vis 光谱 | 第28页 |
·红外光谱 | 第28-29页 |
·比表面积测试 | 第29页 |
·透射电子显微镜 | 第29-30页 |
·X‐射线光电子能谱 | 第30页 |
·表面光电压谱 | 第30-31页 |
·催化剂光催化活性评价 | 第31-33页 |
第三章 非金属离子掺杂纳米TiO_2的合成及光催化性能 | 第33-61页 |
·前言 | 第33页 |
·实验部分 | 第33-35页 |
·样品的制备 | 第33-34页 |
·样品的表征及光催化活性测试 | 第34-35页 |
·结果与讨论 | 第35-59页 |
·TiO_2 的制备及性能 | 第35-39页 |
·非金属离子掺杂TiO_2 的制备及可见光催化性能 | 第39-52页 |
·高热稳定性硅掺杂TiO_2 的制备及性能 | 第52-59页 |
·本章小结 | 第59-61页 |
第四章 小粒子尺寸BiVO_4的设计合成及可见光催化性能 | 第61-71页 |
·前言 | 第61页 |
·实验部分 | 第61-62页 |
·样品的制备 | 第61-62页 |
·样品的表征及光催化活性测试 | 第62页 |
·结果与讨论 | 第62-71页 |
·结构表征 | 第62-67页 |
·光学性质 | 第67-68页 |
·EDTA 的作用机制 | 第68-70页 |
·可见光催化性能 | 第70-71页 |
·本章小结 | 第71页 |
结论 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-83页 |
致谢 | 第83-84页 |
攻读学位期间发表的论文 | 第84页 |