非对称真空灭弧室凹形纵向磁场触头结构的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9-14页 |
| ·课题研究的背景 | 第9-12页 |
| ·真空断路器的研究现状 | 第12-13页 |
| ·课题研究的意义 | 第13-14页 |
| ·课题研究内容及依据 | 第14-15页 |
| ·课题的提出依据 | 第14页 |
| ·课题的研究内容 | 第14-15页 |
| ·本章小结 | 第15-16页 |
| 第2章 真空灭弧室的灭弧原理 | 第16-29页 |
| ·真空灭弧室断口间击穿原理概述 | 第16-17页 |
| ·电子发射引起的欲击穿机理——场电子发射理论 | 第16页 |
| ·阳极或阴极引起的击穿机理 | 第16页 |
| ·微粒引起的击穿机理——微粒说 | 第16-17页 |
| ·真空电弧理论 | 第17-19页 |
| ·真空电弧的阴极与阳极现象 | 第17-18页 |
| ·真空电弧的产生与熄灭 | 第18页 |
| ·真空中电弧的形态 | 第18页 |
| ·弧后介质的恢复 | 第18-19页 |
| ·真空灭弧室断口间纵向磁场的作用 | 第19-27页 |
| ·纵向磁场中电弧的形态 | 第19-20页 |
| ·纵向磁场对真空电弧的作用 | 第20-23页 |
| ·纵向磁场的分布 | 第23-26页 |
| ·凹形纵向磁场对涡流影响的改善 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 第3章 真空灭弧室断口间纵向磁场的仿真研究 | 第29-46页 |
| ·1/2 匝线圈触头系统建模 | 第29-30页 |
| ·1/2 匝触头系统的谐波场仿真分析 | 第30-37页 |
| ·断口间纵向磁场的分布 | 第31-35页 |
| ·剩余磁场与滞后时间 | 第35-37页 |
| ·触头系统的导体电阻 | 第37页 |
| ·1/2 匝线圈与1/3 匝线圈磁场分布的比较 | 第37-39页 |
| ·1/3 匝线圈加铁心触头系统建模 | 第39页 |
| ·1/3 匝线圈加铁心触头系统的谐波场仿真分析 | 第39-45页 |
| ·断口间纵向磁场的分布 | 第39-43页 |
| ·剩余磁场与滞后时间的分布 | 第43-45页 |
| ·触头系统的导体电阻 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 影响纵向磁场触头结构特性的因素 | 第46-56页 |
| ·线圈尺寸对磁场强度的影响 | 第46-52页 |
| ·外线圈外直径的变化 | 第46-48页 |
| ·外线圈厚度的变化 | 第48-50页 |
| ·线圈高度的变化 | 第50-52页 |
| ·线圈结构对涡流的影响 | 第52-54页 |
| ·线圈结构对剩余磁场强度的影响 | 第52-53页 |
| ·线圈结构对滞后时间的影响 | 第53-54页 |
| ·线圈结构对导体电阻的影响 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 在学研究成果 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
