掺硼类金刚石涂层的制备及结合强度研究
摘要 | 第1-8页 |
ABSTRACT | 第8-13页 |
第一章 绪论 | 第13-25页 |
·选题意义 | 第13-14页 |
·类金刚石薄膜简介 | 第14-20页 |
·类金刚石薄膜发展史 | 第14-15页 |
·类金刚石薄膜的结构及性质 | 第15-18页 |
·类金刚石薄膜的应用 | 第18-20页 |
·类金刚石薄膜制备方法 | 第20-22页 |
·化学气相沉积法 | 第20-21页 |
·物理气相沉积法 | 第21-22页 |
·国内外类金刚石薄膜研究现状 | 第22-24页 |
·本文主要研究内容 | 第24-25页 |
第二章 射频磁控溅射制备无掺杂类金刚石涂层 | 第25-36页 |
·射频磁控溅射原理与设备 | 第25-26页 |
·基体材料的选取 | 第26页 |
·制备工艺 | 第26-27页 |
·基底制备及清洗 | 第26-27页 |
·靶材选取 | 第27页 |
·溅射工艺 | 第27页 |
·类金刚石涂层的表征 | 第27-35页 |
·金相显微分析 | 第27-28页 |
·扫描电镜分析 | 第28-29页 |
·能谱分析 | 第29-31页 |
·拉曼光谱分析 | 第31-33页 |
·划痕试验 | 第33-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第三章 闭合场非平衡磁控溅射制备类金刚石涂层 | 第36-51页 |
·非平衡磁控溅射原理与设备 | 第36-37页 |
·基体材料的选取及预处理 | 第37-38页 |
·制备工艺 | 第38-39页 |
·靶材清洗 | 第38页 |
·过渡层制备 | 第38页 |
·溅射参数设置 | 第38-39页 |
·类金刚石涂层的表征 | 第39-50页 |
·原子力显微分析 | 第39-40页 |
·扫描电镜分析 | 第40-41页 |
·拉曼光谱分析 | 第41-43页 |
·X射线衍射分析 | 第43-44页 |
·纳米压痕测试 | 第44-46页 |
·划痕测试 | 第46-48页 |
·摩擦磨损测试 | 第48-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
第四章 闭合场非平衡磁控溅射制备掺硼类金刚石涂层 | 第51-63页 |
·掺杂元素的作用 | 第51-52页 |
·涂层制备 | 第52页 |
·靶材清洗 | 第52页 |
·过渡层制备 | 第52页 |
·溅射参数设置 | 第52页 |
·涂层的表征 | 第52-61页 |
·原子力显微分析 | 第52-53页 |
·扫描电镜分析 | 第53-54页 |
·拉曼光谱分析 | 第54-56页 |
·X射线衍射分析 | 第56-57页 |
·纳米压痕测试 | 第57-58页 |
·划痕测试 | 第58-60页 |
·摩擦磨损测试 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-63页 |
第五章 总结与展望 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-70页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第70-71页 |
致谢 | 第71-72页 |