| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| ·前言 | 第12页 |
| ·铁电体的基本特征 | 第12-14页 |
| ·铁电材料的发展历史 | 第14-15页 |
| ·铁电材料的应用 | 第15页 |
| ·铁电薄膜的性能评价标准 | 第15-17页 |
| ·几种常用的铁电薄膜材料 | 第17-20页 |
| ·铅基 PZT 系钙钛矿结构铁电薄膜 | 第17页 |
| ·铋层状钙钛矿结构 BIT 系铁电薄膜 | 第17-18页 |
| ·BFO 基无铅铁电薄膜 | 第18-20页 |
| ·BFO 薄膜的研究进展 | 第20-26页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 实验方案设计与研究方法 | 第28-34页 |
| ·实验试剂和设备仪器 | 第28-29页 |
| ·铁电薄膜的制备 | 第29-31页 |
| ·铁电薄膜的制备技术 | 第29-30页 |
| ·前驱体溶液的配制 | 第30页 |
| ·Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜的制备工艺流程 | 第30-31页 |
| ·铁电薄膜的结构与性能的表征方法 | 第31-34页 |
| ·X-射线衍射仪 | 第31-32页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第32页 |
| ·铁电性能测试 | 第32-34页 |
| 第三章 预处理温度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜结构和性能的影响 | 第34-44页 |
| ·预处理温度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜结构的影响 | 第35-36页 |
| ·预处理温度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜电学性能的影响 | 第36-42页 |
| ·预处理温度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜铁电性能的影响 | 第36-40页 |
| ·预处理温度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜保持性能的影响 | 第40-41页 |
| ·预处理温度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜漏电性能的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 退火温度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜结构和性能的影响 | 第44-50页 |
| ·退火温度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜结构的影响 | 第44-46页 |
| ·退火温度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜铁电性能的影响 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 单层厚度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜结构和性能的影响 | 第50-64页 |
| ·单层厚度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜结构的影响 | 第50-53页 |
| ·不同单层厚度的 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜的断面形貌图 | 第53-54页 |
| ·单层厚度对 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜铁电性能的影响 | 第54-63页 |
| ·475℃退火的不同单层厚度 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜的铁电性能 | 第54-57页 |
| ·500℃退火的不同单层厚度 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜的铁电性能 | 第57-60页 |
| ·525℃退火的不同单层厚度 Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜的铁电性能 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 结论与展望 | 第64-66页 |
| ·主要结论 | 第64页 |
| ·主要创新点 | 第64-65页 |
| ·工作展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-74页 |
| 致谢 | 第74-76页 |
| 附录 | 第76页 |
