摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-14页 |
·引言 | 第8-11页 |
·微机电系统简介 | 第8-9页 |
·微机电系统与传统机械的区别 | 第9页 |
·微机电系统的制造 | 第9-10页 |
·微机电系统的应用 | 第10页 |
·超薄硅片 | 第10-11页 |
·本论文的研究背景、意义以国内外研究现状 | 第11-13页 |
·研究背景及意义 | 第11-12页 |
·国内外现状 | 第12-13页 |
·本论文的主要内容 | 第13-14页 |
第二章 超薄单晶硅片加工技术及硅微加工技术 | 第14-18页 |
·单晶硅材料的基本性质 | 第14-15页 |
·硅材料的优点 | 第14页 |
·硅材料的缺点 | 第14-15页 |
·单晶硅片的特性简介 | 第15页 |
·硅片制备及硅片减薄技术 | 第15-17页 |
·单晶硅的制备 | 第15-16页 |
·硅片减薄技术 | 第16-17页 |
·硅微加工技术 | 第17-18页 |
·表面微加工 | 第17页 |
·体微加工 | 第17-18页 |
第三章 超薄单晶硅集成电路伸缩性和延展性理论分析 | 第18-26页 |
·硅集成电路的发展状况 | 第18页 |
·集成电路的概念 | 第18页 |
·集成电路的主要发展方向和趋势 | 第18页 |
·超薄单晶硅集成电路 | 第18-26页 |
·波浪硅 | 第19-23页 |
·可伸缩可折叠型超薄单晶硅实物 | 第23-26页 |
第四章 静电驱动超薄硅薄膜变形反射镜理论研究 | 第26-38页 |
·可伸缩可折叠超薄硅的应用——MEMS变形镜 | 第26-28页 |
·变形反射镜工作原理及静态性能分析 | 第28-32页 |
·变形镜中心最大形变量的理论分析 | 第28-32页 |
·变形反射镜动态性能分析 | 第32-34页 |
·变形反射镜临界状态分析 | 第34-36页 |
·电容击穿 | 第34-35页 |
·平行板执行器的吸合(pull-in)效应 | 第35-36页 |
·超薄单晶硅薄膜的弹性力学特性与薄膜半径及厚度关系分析 | 第36-38页 |
·圆形薄膜的弹性系数与反射镜半径关系 | 第37页 |
·圆形薄膜的弹性系数与反射镜厚度关系 | 第37-38页 |
第五章 静电驱动超薄硅薄膜变形反射镜设计及制作 | 第38-47页 |
·超薄硅薄膜变形反射镜电极技术指标 | 第38页 |
·超薄硅薄膜变形反射镜的电极光刻模版设计 | 第38-44页 |
·参数设置 | 第38-39页 |
·版图设计 | 第39-44页 |
·超薄硅薄膜变形反射镜电极制作成品展示 | 第44-45页 |
·超薄单晶硅片变形反射镜组装 | 第45页 |
·超薄单晶硅片变形反射镜表面形貌测试方案 | 第45-47页 |
第六章 总结与展望 | 第47-49页 |
参考文献 | 第49-52页 |
致谢 | 第52页 |