| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-25页 |
| ·功能性纺织材料 | 第14页 |
| ·ZnO的结构与性能 | 第14-18页 |
| ·ZnO晶体结构 | 第14-15页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第15-16页 |
| ·ZnO的电学性质 | 第16-17页 |
| ·ZnO的抗菌性质 | 第17-18页 |
| ·纳米ZnO的制备技术 | 第18-23页 |
| ·磁控溅射法 | 第18-20页 |
| ·分子束外延 | 第20页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第20-21页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第21页 |
| ·喷雾热分解 | 第21页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第21-22页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第22页 |
| ·水热合成法 | 第22-23页 |
| ·ZnO/Cu薄膜研究现状 | 第23页 |
| ·本课题的主要研究内容及研究意义 | 第23-25页 |
| 第2章 PP基纳米ZnO/Cu层状膜的制备工艺及表征 | 第25-43页 |
| ·JGP450型超真空多靶磁控溅射系统 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射薄膜生长机理 | 第26-27页 |
| ·样品的制备 | 第27-28页 |
| ·实验材料 | 第27页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第27页 |
| ·材料的预处理 | 第27页 |
| ·薄膜制备流程 | 第27-28页 |
| ·测试手段 | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第28页 |
| ·X射线衍射物相分析(XRD) | 第28页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第28-29页 |
| ·结果与分析 | 第29-42页 |
| ·不同Cu膜厚度对多层膜结构及表面形貌的影响 | 第29-32页 |
| ·功率对ZnO/Cu层状膜表面形貌的影响 | 第32-34页 |
| ·氩气压强对ZnO/Cu层状膜表面形貌的影响 | 第34-36页 |
| ·氩气流量对ZnO/Cu层状膜表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·氧氩比对ZnO/Cu层状膜表面形貌及结构的影响 | 第37-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第3章 PP基纳米ZnO/Cu层状膜的抗静电性能研究分析 | 第43-53页 |
| ·实验样品与实验仪器 | 第43页 |
| ·实验样品 | 第43页 |
| ·实验仪器 | 第43页 |
| ·实验步骤与检测方法 | 第43-44页 |
| ·织物感应式静电仪 | 第43页 |
| ·抗静电性能测试 | 第43-44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-51页 |
| ·单层膜的抗静电性能 | 第44-45页 |
| ·Cu膜厚度对层状膜抗静电性能的影响 | 第45-46页 |
| ·溅射功率对层状膜抗静电性能的影响 | 第46-47页 |
| ·氩气压强对层状膜抗静电性能的影响 | 第47-49页 |
| ·氩气流量对层状膜抗静电性能的影响 | 第49页 |
| ·氧氩比对层状膜抗静电性能的影响 | 第49-51页 |
| ·层状膜薄膜的抗静电耐久性 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第4章 PP基纳米ZnO/Cu层状膜的光学性能研究分析 | 第53-58页 |
| ·PP基层状膜的光学性能 | 第53-57页 |
| ·实验材料 | 第53页 |
| ·实验仪器 | 第53页 |
| ·不同Cu膜厚度对层状膜光学性能的影响 | 第53-54页 |
| ·不同氩气压强对层状膜光学性能的影响 | 第54-56页 |
| ·不同氧氩比例对层状膜光学性能的影响 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第5章 PP基纳米ZnO/Cu层状膜的抗菌性能研究分析 | 第58-60页 |
| ·实验材料与仪器 | 第58页 |
| ·抗菌性能测试 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第6章 结语 | 第60-62页 |
| ·结论 | 第60-61页 |
| ·本课题的不足与展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
