磁控溅射法AlN/ZnO薄膜的制备及其表征
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-22页 |
| ·薄膜材料简介 | 第14-15页 |
| ·氮化铝的结构与性质 | 第15-17页 |
| ·氮化铝薄膜的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·氮化铝薄膜的材料特性 | 第16-17页 |
| ·氮化铝薄膜的应用与研究进展 | 第17-18页 |
| ·氮化铝薄膜的应用 | 第17-18页 |
| ·氮化铝薄膜的研究进展 | 第18页 |
| ·研究目的及意义 | 第18-20页 |
| ·多层膜的研究意义 | 第18-19页 |
| ·AlN/ZnO薄膜的研究意义 | 第19-20页 |
| ·本篇论文的工作 | 第20-22页 |
| 第二章 氮化铝薄膜的制备与表征 | 第22-31页 |
| ·薄膜的制备的系统 | 第22-24页 |
| ·磁控溅射方法 | 第22页 |
| ·磁控溅射工作原理 | 第22-24页 |
| ·实验设备 | 第24页 |
| ·磁控溅射 | 第24-26页 |
| ·基底的处理 | 第24-25页 |
| ·氧化锌衬底的制备 | 第25页 |
| ·氮化铝薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·薄膜样品的表征 | 第26-31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第26-27页 |
| ·X-射线衍射仪(XRD) | 第27-29页 |
| ·拉曼散射仪(Raman) | 第29-31页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第31-44页 |
| ·Si基底上制备的氮化铝薄膜 | 第31-35页 |
| ·不同氮气含量下制备的氮化铝薄膜 | 第31-32页 |
| ·不同溅射压强下制备的氮化铝薄膜 | 第32-33页 |
| ·不同溅射功率下制备的氮化铝薄膜 | 第33-35页 |
| ·氧化锌衬底上制备的氮化铝薄膜 | 第35-44页 |
| ·氧化锌薄膜衬底 | 第35-38页 |
| ·氧化锌衬底上制备的氮化铝薄膜 | 第38-44页 |
| 第四章 结论 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 附录(攻读学位期间发表论文目录) | 第52-53页 |
