等离子刻蚀周边工艺与冶金硅太阳电池的漏电
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-14页 |
| ·研究背景 | 第9-11页 |
| ·太阳能电池的原理及结构 | 第11-12页 |
| ·太阳能电池的等效电路及主要表征参数 | 第12-13页 |
| ·本论文选题依据及主要内容 | 第13-14页 |
| 第二章 多晶硅太阳能电池的生产工艺流程 | 第14-33页 |
| ·生产工艺流程概述 | 第14页 |
| ·多晶硅片的制绒清洗 | 第14-16页 |
| ·扩散制PN结 | 第16-19页 |
| ·刻蚀工艺简介 | 第19-20页 |
| ·洗电池片表面的PSG层 | 第20-23页 |
| ·PECVD法制减反射膜 | 第23-28页 |
| ·烧结工艺 | 第28-30页 |
| ·分选测试与检验入库 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 等离子刻蚀周边工艺 | 第33-40页 |
| ·刻蚀技术分类 | 第33页 |
| ·湿法化学刻蚀工艺简介 | 第33-34页 |
| ·等离子刻蚀周边工艺 | 第34-39页 |
| ·等离子刻蚀原理 | 第34-35页 |
| ·刻蚀周边工艺 | 第35-37页 |
| ·刻蚀后的检测 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 冶金硅太阳电池的工艺及漏电研究 | 第40-46页 |
| ·冶金硅太阳电池简介 | 第40页 |
| ·磷吸杂前过二洗与不过二洗的对比实验 | 第40-45页 |
| ·实验及对比 | 第40-45页 |
| ·实验结果的讨论 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 结论与展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48页 |
