| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·金属间化合物 | 第12页 |
| ·金属间化合物的特性 | 第12页 |
| ·金属间化合物的发展 | 第12页 |
| ·TiAl 基金属间化合物 | 第12-17页 |
| ·TiAl 基合金的制备 | 第13-14页 |
| ·TiAl 基合金的研究进展 | 第14-16页 |
| ·TiAl 基合金的应用及存在问题 | 第16-17页 |
| ·TiAl 表面改性研究 | 第17-18页 |
| ·TiAl 基合金耐磨性研究进展 | 第18页 |
| ·TiAl 基合金的抗高温氧化性研究进展 | 第18-20页 |
| ·双层辉光等离子冶金技术 | 第20-21页 |
| ·双层辉光离子渗金属原理 | 第20-21页 |
| ·双层辉光离子渗金属技术的特点 | 第21页 |
| ·双层辉光离子渗金属技术研究现状 | 第21页 |
| ·课题的研究背景及主要研究内容 | 第21-24页 |
| ·课题的提出 | 第21-22页 |
| ·可行性分析 | 第22-23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 试验材料及试验方法 | 第24-31页 |
| ·等离子渗 Cr-W 试验 | 第24-27页 |
| ·试验材料 | 第24页 |
| ·源极、阴极布置方式 | 第24-25页 |
| ·实验设备及流程 | 第25-27页 |
| ·合金层力学性能测试及摩擦磨损实验 | 第27-28页 |
| ·划痕测试试验 | 第27页 |
| ·摩擦磨损试验 | 第27-28页 |
| ·氧化试验方案 | 第28-30页 |
| ·实验标准 | 第29页 |
| ·氧化前处理 | 第29页 |
| ·恒温氧化方法 | 第29页 |
| ·检测与分析 | 第29-30页 |
| ·技术路线图 | 第30-31页 |
| 第三章 TiAl 基合金表面等离子渗 Cr-W 工艺研究 | 第31-37页 |
| ·最佳工艺参数的确定 | 第31-34页 |
| ·气压、极间距及源极电压的影响 | 第31-32页 |
| ·温度和阴极电压的影响 | 第32-34页 |
| ·最佳工艺参数 | 第34页 |
| ·Cr-W 合金层组织形貌和成分 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 等离子表面合金层力学性能及摩擦磨损性能的研究 | 第37-47页 |
| ·前言 | 第37页 |
| ·合金层的力学性能分析 | 第37-38页 |
| ·划痕法测量合金层渗层与基体结合力 | 第38-39页 |
| ·常温下 Cr-W 共渗改性层的摩擦磨损性能 | 第39-43页 |
| ·摩擦系数 | 第39-40页 |
| ·磨痕形貌 | 第40-41页 |
| ·磨损量 | 第41-43页 |
| ·500℃下 Cr-W 共渗改性层的摩擦磨损性能 | 第43-45页 |
| ·摩擦系数 | 第43页 |
| ·磨痕形貌 | 第43-44页 |
| ·磨损量 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第五章 等离子表面合金层的高温氧化性能研究 | 第47-57页 |
| ·前言 | 第47页 |
| ·氧化膜中应力的产生和释放 | 第47-49页 |
| ·应力产生 | 第47-48页 |
| ·应力释放 | 第48-49页 |
| ·欲渗元素的氧化机理 | 第49页 |
| ·Cr 的氧化 | 第49页 |
| ·W 的氧化 | 第49页 |
| ·高温氧化试验结果 | 第49-56页 |
| ·氧化动力学曲线 | 第49-52页 |
| ·表面氧化膜形貌及产物分析 | 第52-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第六章 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第65页 |