摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
符号说明 | 第7-8页 |
目录 | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-29页 |
引言 | 第10页 |
·聚集诱导发光(AIE)机理 | 第10-12页 |
·分子内旋转受阻(RIR) | 第10-11页 |
·分子内共平面 | 第11页 |
·抑制分子内光化学或光物理过程 | 第11-12页 |
·目前AIE相关的研究体系 | 第12-16页 |
·不含杂原子的有机荧光材料 | 第12-13页 |
·含有杂原子的有机荧光材料 | 第13-15页 |
·聚合物荧光材料 | 第15-16页 |
·小结 | 第16页 |
·压致变色(PIE)现象概述 | 第16页 |
·PIE材料的分类 | 第16-21页 |
·非AIE型材料 | 第16-19页 |
·AIE型材料 | 第19-21页 |
·小结 | 第21页 |
·文章的设计思想和研究内容 | 第21-23页 |
·希夫碱体系 | 第21-22页 |
·三苯胺单醛及其衍生物 | 第22-23页 |
参考文献 | 第23-29页 |
第二章 苯并咪唑基希夫碱化合物的合成、表征及性质研究 | 第29-53页 |
·引言 | 第29页 |
·实验部分 | 第29-35页 |
·试剂及药品 | 第29页 |
·仪器 | 第29页 |
·合成及表征 | 第29-35页 |
·含苯并咪唑基希夫碱化合物的光物理性质研究 | 第35-49页 |
·六种化合物在纯溶剂中的光物理性质 | 第35-38页 |
·AIE和CEE现象 | 第38-42页 |
·扫描电镜与透射电镜观察 | 第42-46页 |
·不同状态下的光物理性质 | 第46-48页 |
·时间分辨荧光光谱 | 第48-49页 |
·总结 | 第49-51页 |
参考文献 | 第51-53页 |
第三章 基于简单修饰的聚集诱导发光和可逆压致变色的化合物 | 第53-70页 |
·引言 | 第53页 |
·实验部分 | 第53-55页 |
·试剂及药品 | 第53页 |
·仪器 | 第53页 |
·目标化合物的合成及表征 | 第53-55页 |
·三苯胺衍生物的光物理性质研究 | 第55-64页 |
·聚集诱导发光 | 第55-56页 |
·分子内电荷转移 | 第56-58页 |
·溶剂致荧光变色现象 | 第58页 |
·可逆压致变色现象 | 第58-64页 |
·化合物1,2,3的晶体结构 | 第64-67页 |
·总结 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-70页 |
第四章 全文总结及展望 | 第70-72页 |
·全文总结 | 第70页 |
·工作展望 | 第70-72页 |
发表论文 | 第72-73页 |
致谢 | 第73页 |