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熔盐电化学方法在钽表面沉积碳膜的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-8页
目录第8-10页
第1章 绪论第10-21页
   ·碳膜的概述第10-13页
     ·碳膜的结构及组成第10-11页
     ·碳膜的性能及应用第11-13页
   ·碳膜的制备方法第13-19页
     ·物理气相沉积法(PVD)第13-16页
     ·化学气相沉积法(CVD)第16-17页
     ·液相电化学沉积法第17-19页
   ·碳膜的表征方法第19页
   ·论文的研究目的和研究内容第19-21页
第2章 钽基体的氧化行为研究第21-32页
   ·实验内容第21-22页
     ·实验药品及仪器第21-22页
     ·实验步骤第22页
   ·结果与讨论第22-31页
     ·Ta基体的表面形貌第22页
     ·Ta基体的氧化行为第22-29页
     ·Ta基体经氧化后膜层附着力的测试第29-31页
   ·小结第31-32页
第3章 钽基体表面电化学沉积碳膜第32-58页
   ·实验内容第32-36页
     ·实验药品及仪器第32-33页
     ·实验装置第33-34页
     ·实验步骤第34-36页
   ·电化学沉积碳膜的过程中相关物质分解电压的计算第36-39页
     ·熔盐分解电压的计算第36-37页
     ·预氧化处理的Ta基体表面氧化物分解电压的计算第37-38页
     ·K_2CO_3分解电压的计算第38-39页
   ·结果与讨论第39-57页
     ·Ta基体表面电化学沉积碳膜第39-47页
     ·实验温度对Ta基体表面沉积碳膜的影响第47-52页
     ·碳沉积量对Ta基体表面沉积碳膜的影响第52-57页
   ·小结第57-58页
第4章 结论第58-59页
参考文献第59-63页
致谢第63页

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