DLC薄膜的制备及抗辐照特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第9-14页 |
| ·DLC 薄膜研究进展 | 第9-10页 |
| ·DLC 薄膜的基本性质 | 第10-11页 |
| ·DLC 薄膜的成分与结构 | 第10页 |
| ·DLC 薄膜的性能 | 第10-11页 |
| ·DLC 膜的制备方法 | 第11-12页 |
| ·物理气相沉积 | 第11页 |
| ·化学气相沉积 | 第11-12页 |
| ·DLC 薄膜应用现状及存在的问题 | 第12页 |
| ·本文的研究意义及研究内容 | 第12-14页 |
| 2 DLC 薄膜的制备 | 第14-29页 |
| ·实验部分 | 第14-15页 |
| ·PECVD 方法简介 | 第14页 |
| ·实验设备及工作原理 | 第14-15页 |
| ·DLC 薄膜的制备 | 第15-16页 |
| ·常用测试技术 | 第16-17页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第16页 |
| ·能谱（EDX） | 第16-17页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第17页 |
| ·傅里叶变换红外光谱（FTIR） | 第17页 |
| ·拉曼光谱（Raman） | 第17页 |
| ·结果与讨论 | 第17-28页 |
| ·沉积气压变化对 DLC 薄膜制备的影响 | 第17-21页 |
| ·沉积时间变化对 DLC 薄膜制备的影响 | 第21-24页 |
| ·放电电压变化对 DLC 薄膜制备的影响 | 第24-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 3 DLC 膜的退火实验 | 第29-32页 |
| ·实验部分 | 第29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 4 用 He+离子辐照 DLC 膜 | 第32-55页 |
| ·实验部分 | 第32-33页 |
| ·离子注入技术简介 | 第32页 |
| ·实验设备及工作原理 | 第32-33页 |
| ·用 He+离子辐照DLC薄膜 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-54页 |
| ·He+离子辐照能量变化对DLC薄膜的影响 | 第33-39页 |
| ·He+离子辐照温度变化对DLC薄膜的影响 | 第39-45页 |
| ·He+离子辐照剂量变化对DLC薄膜的影响 | 第45-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 攻读硕士期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
