| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·课题背景 | 第10-11页 |
| ·真空镀膜技术简介 | 第11页 |
| ·离子镀膜技术 | 第11-12页 |
| ·多弧离子镀技术概论 | 第12-16页 |
| ·多弧离子镀的基本结构与沉积原理 | 第12-14页 |
| ·多弧离子镀的技术特点 | 第14页 |
| ·多弧离子镀技术的应用 | 第14-15页 |
| ·多弧离子镀的主要工艺参数 | 第15-16页 |
| ·TiN 基涂层的研究进展 | 第16-18页 |
| ·TiN 基涂层的多层化 | 第17页 |
| ·TiN 基涂层的合金化 | 第17-18页 |
| ·TiALN 涂层的结构特点及研究现状 | 第18-20页 |
| ·TiAlN 涂层的结构 | 第18页 |
| ·TiAlN 涂层特点 | 第18页 |
| ·TIALN 涂层研究现状 | 第18-20页 |
| ·选题意义及研究内容 | 第20-22页 |
| ·选题意义 | 第20页 |
| ·研究内容 | 第20-21页 |
| ·本研究的技术路线 | 第21-22页 |
| 第二章 实验材料与方法 | 第22-33页 |
| ·实验材料 | 第22页 |
| ·实验设备 | 第22-24页 |
| ·基体试样的表面预处理 | 第24页 |
| ·试样的制备 | 第24-27页 |
| ·偏压轰击清洗 | 第24-25页 |
| ·弧光清洗 | 第25-26页 |
| ·沉积 TiN/TiAlN 复合膜 | 第26-27页 |
| ·膜层分析检测方法 | 第27-33页 |
| ·膜层成分与表面形貌的分析检测 | 第27-32页 |
| ·膜层性能测试 | 第32-33页 |
| 第三章 TiN/TiAlN 薄膜的组织形貌及成分分析 | 第33-41页 |
| ·膜层的表面形貌分析 | 第33-38页 |
| ·膜层的表面颜色对比 | 第33-34页 |
| ·工艺参数对膜层表面形貌的影响 | 第34-38页 |
| ·膜层的 Al/Ti 成分比例分析 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 TiN/TiAlN 薄膜的性能研究 | 第41-57页 |
| ·膜/基结合力的研究 | 第41-45页 |
| ·膜层显微硬度的研究 | 第45-47页 |
| ·摩擦磨损性能研究 | 第47-52页 |
| ·膜层的热震性能研究 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |