电泳—烧结两步法制备氧化硅涂层及性能研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-26页 |
| ·引言 | 第15-16页 |
| ·SiO_2溶胶性能简介 | 第16-17页 |
| ·SiO_2溶胶的制备 | 第17-19页 |
| ·离子交换法 | 第17页 |
| ·分散法 | 第17-18页 |
| ·电解电渗析法 | 第18页 |
| ·胶溶法 | 第18页 |
| ·正硅酸乙酯法 | 第18-19页 |
| ·SiO_2薄膜的制备及应用 | 第19-22页 |
| ·SiO_2薄膜的制备 | 第19-21页 |
| ·氧化硅薄膜的应用 | 第21-22页 |
| ·电泳沉积-烧结法制备陶瓷膜简介 | 第22-23页 |
| ·研究意义及目的 | 第23-25页 |
| ·本论文的研究内容 | 第25-26页 |
| 第2章 实验部分 | 第26-34页 |
| ·实验材料 | 第26-27页 |
| ·实验试剂 | 第26页 |
| ·实验仪器 | 第26-27页 |
| ·工艺流程 | 第27-29页 |
| ·A3 钢的前处理 | 第27-28页 |
| ·A3 钢的成膜工艺流程 | 第28-29页 |
| ·氧化硅涂层的性能检测 | 第29-31页 |
| ·氧化硅涂层的耐蚀性能检测 | 第29-30页 |
| ·氧化硅涂层和基体材料结合强度的测试 | 第30页 |
| ·氧化硅涂层表面密度测定 | 第30-31页 |
| ·氧化硅涂层硬度的测定 | 第31页 |
| ·氧化硅涂层的耐磨性能测试 | 第31页 |
| ·表征方法 | 第31-34页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第31页 |
| ·差热测试（DTA） | 第31-32页 |
| ·XRD 分析 | 第32-33页 |
| ·红外光谱(IR)测试 | 第33-34页 |
| 第3章 硅溶胶的制备及表征 | 第34-39页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·硅溶胶的制备 | 第34页 |
| ·硅溶胶宏观及微观形貌 | 第34-35页 |
| ·硅溶胶的差热测试（DTA） | 第35-36页 |
| ·硅溶胶的红外分析（IR） | 第36-37页 |
| ·硅溶胶的 XRD 测试 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 电泳沉积硅溶胶制备涂层及性能研究 | 第39-63页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·电泳沉积实验准备 | 第40-41页 |
| ·电泳液的制备 | 第40页 |
| ·实验过程 | 第40-41页 |
| ·最优电泳参数的确定 | 第41-43页 |
| ·电泳工艺条件对成膜性能的影响 | 第43-47页 |
| ·电泳电压对氧化硅涂层性能的影响 | 第43-45页 |
| ·电泳沉积时间对涂层性能的影响 | 第45-46页 |
| ·电泳沉积次数对涂层性能的影响 | 第46-47页 |
| ·烧成制度对成膜性能的影响 | 第47-50页 |
| ·烧结温度对涂层性能的影响 | 第47-49页 |
| ·烧结时间对涂层性能的影响 | 第49-50页 |
| ·涂层外观形貌分析 | 第50-54页 |
| ·电泳工艺条件对涂层外观形貌的影响 | 第50-52页 |
| ·烧成制度对涂层外观形貌的影响 | 第52-54页 |
| ·氧化硅涂层的电化学测试 | 第54-57页 |
| ·不同电泳电压下涂层的电化学测试 | 第54-55页 |
| ·不同电泳时间下涂层的电化学测试 | 第55页 |
| ·不同电泳次数下涂层的电化学测试 | 第55-56页 |
| ·不同烧结温度下涂层的电化学测试 | 第56-57页 |
| ·不同烧结时间下涂层的电化学测试 | 第57页 |
| ·氧化硅涂层表征测试 | 第57-62页 |
| ·氧化硅涂层的 SEM 形貌 | 第57-60页 |
| ·氧化硅涂层的 XRD 分析 | 第60-61页 |
| ·氧化硅涂层的 IR 分析 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第5章 电泳沉积乙醇硅溶胶制备涂层及性能研究 | 第63-79页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·电泳沉积实验准备 | 第63-64页 |
| ·电泳液的制备 | 第63-64页 |
| ·实验过程 | 第64页 |
| ·最优电泳参数方案的确定 | 第64-66页 |
| ·工艺条件对氧化硅涂层性能的影响 | 第66-72页 |
| ·电泳电压对涂层性能的影响 | 第66-68页 |
| ·电泳时间对涂层性能的影响 | 第68-69页 |
| ·电泳次数对涂层性能的影响 | 第69-70页 |
| ·电泳液中硅溶胶的含量对涂层性能的影响 | 第70-72页 |
| ·氧化硅涂层的电化学测试 | 第72-75页 |
| ·不同电泳电压下涂层的电化学测试 | 第72-73页 |
| ·不同电泳时间下涂层的电化学测试 | 第73-74页 |
| ·不同电泳次数下涂层的电化学测试 | 第74页 |
| ·不同硅溶胶含量下涂层的电化学测试 | 第74-75页 |
| ·氧化硅涂层的表征 | 第75-78页 |
| ·SEM 微观形貌 | 第75-77页 |
| ·XRD 分析 | 第77页 |
| ·红外光谱分析（IR） | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第6章 电泳法与浸涂法对涂层的成膜性的比较 | 第79-90页 |
| ·前言 | 第79页 |
| ·实验过程 | 第79页 |
| ·电泳沉积法与浸涂法对膜的成膜性能的比较 | 第79-82页 |
| ·电泳沉积法与浸涂法对涂层的性能的比较 | 第79-81页 |
| ·电化学测试 | 第81-82页 |
| ·电泳沉积法与浸涂法对涂层的外观形貌的比较 | 第82-84页 |
| ·电泳沉积法与浸涂法对涂层的表征比较 | 第84-89页 |
| ·扫描电镜（SEM） | 第84-87页 |
| ·XRD 分析 | 第87-88页 |
| ·红外分析 | 第88-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| 结论 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-99页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第99-100页 |
| 致谢 | 第100-101页 |
