| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-22页 |
| ·表面特殊浸润性研究进展 | 第11-18页 |
| ·基本概念及原理 | 第11-14页 |
| ·接触角与Young's方程 | 第11-12页 |
| ·前进角、后退角、接触角滞后 | 第12页 |
| ·Wenzel模型、Cassie-Baxter模型、Wenzel-Cassie共存模型 | 第12-14页 |
| ·特殊浸润性常温下研究进展 | 第14-15页 |
| ·超疏水性表面 | 第14-15页 |
| ·超亲水性表面 | 第15页 |
| ·超双疏性表面 | 第15页 |
| ·特殊浸润性非平衡温度研究进展 | 第15-18页 |
| ·特殊浸润性高温研究进展 | 第15-17页 |
| ·特殊浸润性低温研究进展 | 第17-18页 |
| ·纳米阵列结构制备技术 | 第18-21页 |
| ·纳米阵列材料的制备方法 | 第18-21页 |
| ·模板法 | 第18-20页 |
| ·非模板法 | 第20-21页 |
| ·立题思想 | 第21-22页 |
| 2 阳极氧化铝模板的可控制备 | 第22-33页 |
| ·前言 | 第22页 |
| ·实验部分 | 第22-26页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第22-23页 |
| ·实验步骤 | 第23-26页 |
| ·铝片表面预处理 | 第23-24页 |
| ·铝表面预图案 | 第24-25页 |
| ·阳极氧化铝模板的制备 | 第25页 |
| ·阳极氧化铝模板的表征 | 第25-26页 |
| ·实验结果与讨论 | 第26-32页 |
| ·阳极氧化铝模板的制备 | 第26-27页 |
| ·直孔阳极氧化铝模板的制备 | 第26-27页 |
| ·锥孔阳极氧化铝模板的制备 | 第27页 |
| ·阳极氧化铝模板周期调控 | 第27-29页 |
| ·阳极氧化铝模板孔深调控 | 第29-30页 |
| ·阳极氧化铝模板孔径调控 | 第30-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 3 镍纳米棒阵列结构构筑及表面高温浸润性研究 | 第33-51页 |
| ·前言 | 第33页 |
| ·实验部分 | 第33-36页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第33-34页 |
| ·实验步骤 | 第34-36页 |
| ·镍纳米阵列制备示意图 | 第34-35页 |
| ·电化学沉积 | 第35页 |
| ·去除阳极氧化铝模板 | 第35-36页 |
| ·镍纳米棒阵列表征与性能测试 | 第36页 |
| ·实验结果与讨论 | 第36-50页 |
| ·镍纳米棒阵列结构制备与调控 | 第36-46页 |
| ·镍纳米棒/锥阵列制备与XRD表征 | 第36-39页 |
| ·镍纳米棒间距调控及接触角表征 | 第39-42页 |
| ·镍纳米棒高度调控及接触角表征 | 第42-44页 |
| ·镍纳米棒直径调控及接触角表征 | 第44-46页 |
| ·镍纳米棒结构表面高温浸润性研究 | 第46-50页 |
| ·实验装置 | 第46页 |
| ·T_a、T_b的定义 | 第46-47页 |
| ·水滴在高温样品表面三种弹跳形式 | 第47-48页 |
| ·镍片表面结构对水滴弹跳温度临界点的影响 | 第48-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 4 镍纳米锥阵列结构构筑及强化冷凝传热研究 | 第51-64页 |
| ·前言 | 第51页 |
| ·实验部分 | 第51-53页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第51-52页 |
| ·实验步骤 | 第52-53页 |
| ·铜片表面处理 | 第52页 |
| ·电结晶 | 第52-53页 |
| ·镍纳米锥阵列表征与性能测试 | 第53页 |
| ·实验结果与讨论 | 第53-63页 |
| ·镍纳米锥结构制备 | 第53-58页 |
| ·电沉积时间对沉积层结构影响 | 第53-55页 |
| ·EDA浓度对沉积层结构影响 | 第55-56页 |
| ·电流密度对对沉积层结构影响 | 第56-58页 |
| ·强化冷凝传热研究 | 第58-63页 |
| ·冷凝传热装置图 | 第58-59页 |
| ·优化条件得到的镍纳米锥阵列结构及其接触角、XRD表征 | 第59-60页 |
| ·冷凝传热过程图 | 第60-61页 |
| ·冷凝传热性能分析 | 第61-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 5 总结 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-73页 |