摘要 | 第1-12页 |
ABSTRACT | 第12-14页 |
本文主要创新点 | 第14-15页 |
第一章 绪论 | 第15-29页 |
·研究背景 | 第15-22页 |
·LaB_6的结构、性能及研究现状 | 第15-18页 |
·ITO的结构、性能及研究现状 | 第18-21页 |
·LaB_6、ITO复合材料研究概况 | 第21-22页 |
·薄膜生长机理及磁控溅射方法 | 第22-25页 |
·薄膜生长 | 第23-24页 |
·磁控溅射原理及研究概况 | 第24-25页 |
·薄膜的热处理 | 第25-26页 |
·课题研究的目的及主要内容 | 第26-29页 |
第二章 试验内容 | 第29-43页 |
·试验材料 | 第29页 |
·试验设备与溅射工艺参数 | 第29-32页 |
·薄膜分析测试方法 | 第32-43页 |
·X射线衍射仪 | 第32-33页 |
·高分辨透射电镜 | 第33-34页 |
·X射线光电子能谱仪 | 第34-35页 |
·热场发射扫描电镜 | 第35-36页 |
·原子力显微镜 | 第36-37页 |
·台阶仪 | 第37-38页 |
·纳米压痕测试仪 | 第38-39页 |
·紫外/可见/近红外分光光度计 | 第39-40页 |
·霍尔测量仪 | 第40-43页 |
第三章 热处理及溅射工艺对LAB_6/ITO薄膜组织结构的影响 | 第43-67页 |
·不同溅射工艺下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的XRD分析 | 第43-49页 |
·不同氩气气压下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的XRD分析 | 第43-45页 |
·不同基片偏压下热处理前后LaB_6/ITO薄膜的XRD分析 | 第45-46页 |
·不同溅射功率下热处理前后LaB_6/ITO薄膜的XRD分析 | 第46-48页 |
·不同热处理温度下LaB_6/ITO薄膜的XRD分析 | 第48-49页 |
·LaB_6薄膜的XRD、XPS分析 | 第49-51页 |
·不同溅射工艺下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的AFM分析 | 第51-57页 |
·不同氩气气压下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的AFM分析 | 第51-52页 |
·不同基片偏下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的AFM分析 | 第52-53页 |
·不同溅射功率下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的AFM分析 | 第53-55页 |
·不同热处理温度下LaB_6/ITO薄膜的AFM分析 | 第55-56页 |
·由原子力显微镜观察薄膜生长 | 第56-57页 |
·不同溅射工艺下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的断口形貌 | 第57-62页 |
·不同氩气气压下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的断口形貌 | 第57-58页 |
·不同基片偏压下热处理前后LaB_6/ITO薄膜的断口形貌 | 第58-60页 |
·不同溅射功率下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的断口形貌 | 第60-61页 |
·不同热处理温度下LaB_6/ITO薄膜的断口形貌 | 第61-62页 |
·不同氩气气压下溅射LaB_6/ITO薄膜的能谱分析 | 第62-63页 |
·LaB_6/ITO薄膜的高分辨分析 | 第63-64页 |
·LaB_6/ITO薄膜的硬度、弹性模量分析 | 第64-65页 |
·本章小结 | 第65-67页 |
第四章 LAB_6/ITO薄膜的光电性能分析 | 第67-79页 |
·不同溅射工艺下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的光学性能分析 | 第68-73页 |
·不同氩气气压下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的光学性能分析 | 第68-69页 |
·不同基片偏压下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的光学性能分析 | 第69-70页 |
·不同溅射功率下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的光学性能分析 | 第70-72页 |
·不同热处理温度下LaB_6/ITO薄膜的光学性能分析 | 第72-73页 |
·不同溅射工艺下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的电学性能分析 | 第73-77页 |
·不同氩气气压下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的电学性能分析 | 第73-74页 |
·不同基片偏压下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的电学性能分析 | 第74-75页 |
·不同溅射功率下LaB_6/ITO薄膜热处理前后的电学性能分析 | 第75-76页 |
·不同热处理温度下LaB_6/ITO薄膜的电学性能分析 | 第76-77页 |
·本章小结 | 第77-79页 |
第五章 结论 | 第79-81页 |
参考文献 | 第81-89页 |
致谢 | 第89-91页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第91-92页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第92页 |