阳极氧化多孔结构的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第一章 阳极氧化铝的研究 | 第10-57页 |
| 1、绪论 | 第10-25页 |
| ·模板的种类 | 第10-11页 |
| ·阳极氧化铝的发展 | 第11-12页 |
| ·阳极氧化铝制备方面的研究 | 第12-15页 |
| ·阳极氧化铝应用方面的研究 | 第15-20页 |
| ·阳极氧化铝的形成机理 | 第20-25页 |
| 2. 多孔阳极氧化铝的制备 | 第25-32页 |
| ·药品和使用仪器 | 第25-26页 |
| ·铝片的前处理 | 第26-28页 |
| ·铝的阳极氧化装置 | 第28-30页 |
| ·铝片阳极氧化方法 | 第30-32页 |
| 3. 氧化条件对阳极氧化铝多孔结构的影响 | 第32-57页 |
| ·氧化电压对于多孔结构孔径的影响 | 第32-39页 |
| ·通孔时间对于多孔结构阻挡层的影响 | 第39-41页 |
| ·扩孔时间对多孔结构孔径变化的影响 | 第41-48页 |
| ·电解质浓度对多孔结构的影响 | 第48-52页 |
| ·阳极氧化铝多孔结构极限生长条件研究 | 第52-57页 |
| 第二章 多孔硅的研究 | 第57-68页 |
| 1. 绪论 | 第57-61页 |
| ·多孔硅的发展 | 第57-58页 |
| ·多孔硅制备和性能研究 | 第58-61页 |
| 2. 多孔硅的制备 | 第61-62页 |
| ·多孔硅的制备原理 | 第61页 |
| ·多孔硅的制备方案 | 第61-62页 |
| 3. 药品和使用仪器 | 第62-63页 |
| 4. 氧化条件对多孔硅孔隙率的影响 | 第63-68页 |
| ·HF 浓度对多孔硅孔隙率的影响 | 第63-65页 |
| ·电流密度对孔隙率的影响 | 第65-68页 |
| 第三章 全文总结和展望 | 第68-71页 |
| 1. 全文总结 | 第68-70页 |
| 2. 进一步展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
