| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·研究背景和意义 | 第9页 |
| ·齿轮失效形式及强化方法 | 第9-12页 |
| ·齿轮的主要失效形式 | 第9-11页 |
| ·常用的齿轮强化方法 | 第11-12页 |
| ·离子渗氮技术 | 第12-13页 |
| ·离子渗氮技术的定义与特点 | 第12-13页 |
| ·离子渗氮技术的应用现状 | 第13页 |
| ·离子渗氮技术的发展趋势 | 第13页 |
| ·多弧离子镀技术 | 第13-16页 |
| ·多弧离子镀的原理及特点 | 第14-15页 |
| ·多弧离子镀的应用和发展 | 第15-16页 |
| ·TiAlN 材料的研究现状及发展 | 第16-17页 |
| ·TiAlN 国外研究现状 | 第16页 |
| ·TiAlN 国内研究现状 | 第16页 |
| ·TiAlN 膜层的发展趋势 | 第16-17页 |
| ·离子渗氮与离子镀复合处理技术 | 第17-18页 |
| ·本论文研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 试验材料及方法 | 第19-24页 |
| ·试验材料 | 第19页 |
| ·试样尺寸及形状 | 第19-20页 |
| ·试验设备 | 第20-21页 |
| ·表面处理工艺 | 第21-22页 |
| ·形貌及性能检测分析 | 第22-24页 |
| ·形貌观察及相结构分析 | 第22-23页 |
| ·硬度及结合力分析 | 第23页 |
| ·抗氧化性及摩擦磨损试验分析 | 第23-24页 |
| 第3章 制备工艺的研究 | 第24-46页 |
| ·离子渗氮 | 第24-27页 |
| ·离子渗氮工艺 | 第24-25页 |
| ·表面形貌与性能分析 | 第25-27页 |
| ·TiN 工艺的研究 | 第27-29页 |
| ·Ti_(0.33)Al_(0.67)N 膜层的制备与性能 | 第29页 |
| ·涂层制备工艺正交试验 | 第29-34页 |
| ·沉积工艺 | 第30-31页 |
| ·正交试验结果及其分析 | 第31-32页 |
| ·正交试验后的优化工艺 | 第32页 |
| ·优化工艺下膜层表面形貌及厚度观察 | 第32-34页 |
| ·基体负偏压对膜层形貌与性能的影响 | 第34-37页 |
| ·基体负偏压对膜层表面形貌的影响 | 第34-35页 |
| ·基体负偏压对膜层厚度、结合力及显微硬度的影响 | 第35-37页 |
| ·N_2分压对膜层形貌与性能的影响 | 第37-40页 |
| ·N_2分压对表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·氮分压对膜层厚度、结合力及显微硬度的影响 | 第38-40页 |
| ·靶电流对膜层的影响 | 第40-43页 |
| ·靶电流对膜层表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·合金靶电流对膜层厚度、结合力及显微硬度的影响 | 第41-43页 |
| ·膜层沉积率 | 第43-45页 |
| ·离子氮化与离子镀工艺 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 Ti_(1-x)Al_xN 膜层的组织与性能的研究 | 第46-63页 |
| ·单层 Ti(1-x)Al_xN 膜层的制备与性能研究 | 第46-54页 |
| ·单层膜层的表面形貌 | 第46-47页 |
| ·膜层的成分分析 | 第47-50页 |
| ·膜层的厚度对比 | 第50页 |
| ·膜层的相结构分析 | 第50-53页 |
| ·膜层的显微硬度分析 | 第53-54页 |
| ·梯度 Ti_(1-x)Al_xN 膜层的工艺与性能研究 | 第54-62页 |
| ·梯度膜层的制备 | 第55-56页 |
| ·表面形貌 | 第56页 |
| ·相结构 | 第56-60页 |
| ·显微硬度 | 第60-61页 |
| ·结合力对比 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第5章 抗氧化与摩擦磨损性能的研究 | 第63-70页 |
| ·复合薄膜的抗氧化性能研究 | 第63-65页 |
| ·不同温度下试样的抗氧化性能 | 第63-64页 |
| ·800℃下试样的抗氧化性能对比 | 第64-65页 |
| ·摩擦磨损 | 第65-69页 |
| ·摩擦磨损特性的对比 | 第67-68页 |
| ·磨痕形貌对比分析 | 第68页 |
| ·磨损量分析 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 大摘要 | 第76-80页 |
