| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 综述 | 第9-16页 |
| ·太阳能电池简介 | 第9-11页 |
| ·太阳能电池研究意义 | 第9页 |
| ·太阳能电池的应用背景 | 第9-10页 |
| ·太阳能电池发展历史 | 第10-11页 |
| ·硅基太阳能电池 | 第11-13页 |
| ·单晶硅太阳能电池 | 第11-12页 |
| ·多晶硅太阳能电池 | 第12页 |
| ·硅基薄膜太阳能电池 | 第12-13页 |
| ·硅基薄膜材料 | 第13-16页 |
| ·单晶硅薄膜 | 第13-14页 |
| ·多晶硅薄膜 | 第14-15页 |
| ·氢化微晶硅薄膜 | 第15页 |
| ·氢化非晶硅薄膜 | 第15-16页 |
| 第二章 热丝化学气相沉积(HW-CVD)介绍 | 第16-20页 |
| ·热丝化学气相沉积发展历史 | 第16-18页 |
| ·热丝种类介绍 | 第18-19页 |
| ·HW-CVD反应机制 | 第19-20页 |
| 第三章 氢化硅薄膜生长机制分析 | 第20-25页 |
| ·微晶硅薄膜生长模型 | 第20-23页 |
| ·非晶硅薄膜生长模型 | 第23-25页 |
| 第四章 测试仪器介绍 | 第25-30页 |
| ·拉曼散射谱 | 第25-27页 |
| ·傅里叶变换红外光谱 | 第27-29页 |
| ·暗电导率测试法 | 第29-30页 |
| 第五章 样品制备介绍 | 第30-34页 |
| ·HW-CVD系统介绍 | 第30-32页 |
| ·热丝及支架 | 第32-33页 |
| ·热丝预处理 | 第33页 |
| ·衬底的选择与处理 | 第33-34页 |
| 第六章 热丝温度、衬底距离对薄膜生长的影响及H基元模型分析 | 第34-44页 |
| ·拉曼散射 | 第36-38页 |
| ·红外测试结果 | 第38-39页 |
| ·温度场模拟 | 第39-40页 |
| ·H基元模型 | 第40-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 第七章 衬底温度对薄膜生长及性质的影响 | 第44-59页 |
| ·拉曼散射光谱的测试结果 | 第45-48页 |
| ·SEM分析 | 第48-51页 |
| ·紫外-可见透射光谱分析 | 第51-57页 |
| ·暗电导测试结果 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 第八章 结论与展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |