| 目录 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 第一章 钙钛矿型锰氧化物研究进展及现状 | 第12-58页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·钙钛矿型锰氧化物的基本性质和理论 | 第12-29页 |
| ·钙钛矿型锰氧化物的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·钙钛矿型锰氧化物的晶体场劈裂和Jahn-Teller效应 | 第14-16页 |
| ·双交换作用及电-声子耦合作用 | 第16-18页 |
| ·钙钛矿型锰氧化物的序 | 第18-22页 |
| ·相分离特性 | 第22-29页 |
| ·磁阻效应及相关原理 | 第29-39页 |
| ·巨磁阻效应 | 第29-31页 |
| ·隧穿磁阻效应 | 第31-34页 |
| ·庞磁阻效应 | 第34-35页 |
| ·各向异性磁阻效应 | 第35-37页 |
| ·其它磁阻效应和低场磁阻 | 第37-39页 |
| ·锰氧化物外延薄膜的晶格应力作用 | 第39-46页 |
| ·锰氧化物薄膜背景介绍 | 第39-41页 |
| ·晶格应力诱导电荷轨道有序 | 第41-44页 |
| ·锰氧化物外延薄膜的一级相转变研究 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-58页 |
| 第二章 La_(0.625)Ca_(0.375)MnO_3薄膜外延方法及工艺优化 | 第58-76页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·田口品质法(Taguchi methods) | 第58-62页 |
| ·实验设计发展历史及田口品质法 | 第58-60页 |
| ·田口品质法的重要概念 | 第60-61页 |
| ·田口式直交表 | 第61-62页 |
| ·田口方法的实验步骤 | 第62页 |
| ·La_(0.625)Ca_(0.375)MnO_3薄膜外延方法(田口品质法) | 第62-65页 |
| ·实验方法与设计 | 第63页 |
| ·薄膜样品制备 | 第63-65页 |
| ·实验结果和讨论 | 第65-73页 |
| ·制备工艺对薄膜形貌的影响 | 第65-69页 |
| ·制备工艺对薄膜晶体结构的影响 | 第69-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 第三章 应力诱导相分离和磁阻增强效应 | 第76-88页 |
| ·引言 | 第76-77页 |
| ·样品制备和实验方法介绍 | 第77页 |
| ·La_(0.625)Ca_(0.375)MnO_3多晶靶材及外延薄膜制备方法介绍 | 第77页 |
| ·测试方法介绍 | 第77页 |
| ·实验结果和讨论 | 第77-84页 |
| ·La_(0.625)Ca_(0.375)MnO_3外延薄膜的XRD结果 | 第78-79页 |
| ·La_(0.625)Ca_(0.375)MnO_3外延薄膜的电阻和磁阻测试结果 | 第79-84页 |
| ·应力导致AMR与CMR增强的解释 | 第84页 |
| ·本章小结 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-88页 |
| 第四章 退火诱导La_(0.625)Ca_(0.375)MnO_3薄膜应力及相分离演化 | 第88-106页 |
| ·引言 | 第88-89页 |
| ·样品制备和实验方法介绍 | 第89-90页 |
| ·La_(0.625)Ca_(0.375)MnO_3多晶靶材及外延薄膜制备 | 第89-90页 |
| ·测试方法介绍 | 第90页 |
| ·实验结果和讨论 | 第90-102页 |
| ·退火诱导La_(0.625)Ca_(0.375)MnO_3外延薄膜应力演化过程 | 第90-92页 |
| ·退火过程对薄膜表面形貌的影响 | 第92-96页 |
| ·退火诱导La_(0.625)Ca_(0.375)MnO_3外延薄膜相分离演化行为 | 第96-98页 |
| ·在温场和磁场作用下样品的反铁磁相涨落 | 第98-102页 |
| ·本章小结 | 第102-104页 |
| 参考文献 | 第104-106页 |
| 第五章 La_(0.625)Ca_(0.375)MnO_3外延薄膜的面内有序畴结构 | 第106-118页 |
| ·引言 | 第106-107页 |
| ·样品制备和测试方法介绍 | 第107-108页 |
| ·La_(0.625)Ca_(0.375)MnO_3多晶靶材及外延薄膜制备 | 第107页 |
| ·测试方法介绍 | 第107-108页 |
| ·实验结果和讨论 | 第108-114页 |
| ·LCMO外延薄膜XRD的2θ-θ扫描结果 | 第108-109页 |
| ·LCMO外延薄膜XRD的φ扫描结果 | 第109-110页 |
| ·薄膜中的面内有序畴结构和形貌分析 | 第110-111页 |
| ·畴结构诱导的磁阻增强效应 | 第111-114页 |
| ·本章小结 | 第114-116页 |
| 参考文献 | 第116-118页 |
| 论文总结及展望 | 第118-120页 |
| 致谢 | 第120-122页 |
| 论文发表情况 | 第122页 |
