| 中文摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-43页 |
| ·材料的摩擦与磨损 | 第14-15页 |
| ·磨损的主要类型 | 第14-15页 |
| ·提高材料抗摩擦磨损性能的方法 | 第15页 |
| ·硬质涂层 | 第15-30页 |
| ·硬质涂层的分类 | 第15-16页 |
| ·涂层技术的发展过程和现状 | 第16-19页 |
| ·梯度涂层 | 第19-20页 |
| ·涂层材料的特殊性 | 第20-24页 |
| ·硬质涂层的制备技术 | 第24-29页 |
| ·硬质涂层应用中存在的问题 | 第29-30页 |
| ·强流脉冲离子束(HIPIB)技术 | 第30-40页 |
| ·HIPIB技术的特点及其在材料表面工程中的应用 | 第30-34页 |
| ·HIPIB技术的发展过程和现状 | 第34-35页 |
| ·HIPIB与材料的相互作用 | 第35-38页 |
| ·强流脉冲离子束的产生 | 第38-40页 |
| ·本论文的研究目的及研究内容 | 第40-43页 |
| ·研究目的 | 第40-42页 |
| ·研究内容 | 第42-43页 |
| 第二章 复合氮化物硬质涂层的制备工艺和HIPIB辐照处理 | 第43-56页 |
| ·基体与涂层材料的选择 | 第43-44页 |
| ·基体材料的选择 | 第43-44页 |
| ·涂层材料的选择 | 第44页 |
| ·工艺参数对涂层成分和沉积速率的影响 | 第44-46页 |
| ·涂层性能的表征方法 | 第46-47页 |
| ·复合氮化物硬质涂层的制备 | 第47-53页 |
| ·均质涂层的制备 | 第47-50页 |
| ·梯度涂层的制备 | 第50-53页 |
| ·(Ti_x,Nb_(1-x))N梯度涂层的制备工艺 | 第50-52页 |
| ·(Ti_x,Zr_(l-x))N梯度涂层的制备工艺 | 第52-53页 |
| ·复合氮化物涂层的HIPIB辐照处理 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第三章 复合氮化物硬质涂层的结构和性能 | 第56-76页 |
| ·涂层的表面形貌和相结构 | 第56-64页 |
| ·表面形貌 | 第56-57页 |
| ·相结构 | 第57-60页 |
| ·讨论 | 第60-64页 |
| ·涂层的硬度和膜基结合力 | 第64-71页 |
| ·硬度 | 第64页 |
| ·膜基结合力 | 第64-66页 |
| ·讨论 | 第66-71页 |
| ·涂层的摩擦磨损性能 | 第71-74页 |
| ·涂层的磨损量 | 第71页 |
| ·讨论 | 第71-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第四章 强流脉冲离子束辐照对涂层结构和性能的影响 | 第76-88页 |
| ·HIPIB辐照对(Ti,Nb)N涂层表面形貌和相结构的影响 | 第76-81页 |
| ·辐照后涂层的表面形貌和相结构 | 第76页 |
| ·讨论 | 第76-81页 |
| ·HIPIB辐照对(Ti,Nb)N涂层硬度和膜基结合力的影响 | 第81-84页 |
| ·辐照后涂层的硬度和膜基结合力 | 第81页 |
| ·讨论 | 第81-84页 |
| ·HIPIB辐照对(Ti,Nb)N涂层摩擦磨损性能的影响 | 第84-86页 |
| ·辐照后涂层的磨损量 | 第84-85页 |
| ·讨论 | 第85-86页 |
| ·(Ti,Zr)N涂层的HIPIB辐照处理 | 第86-87页 |
| ·本章小结 | 第87-88页 |
| 第五章 强流脉冲离子束辐照过程的温度场模拟 | 第88-105页 |
| ·温度场的形成 | 第88-89页 |
| ·离子在材料中的能量沉积特征 | 第89-93页 |
| ·HIPIB辐照过程的温度场模拟 | 第93-98页 |
| ·数学物理模型及计算方法的选取 | 第93-95页 |
| ·变物性及相变潜热的处理 | 第95-98页 |
| ·HIPIB辐照过程温度场的模拟结果 | 第98-101页 |
| ·膜层的温度分布及其演变 | 第98-100页 |
| ·温度随时间及深度变化率分布 | 第100-101页 |
| ·模拟结果的实验验证 | 第101-104页 |
| ·本章小结 | 第104-105页 |
| 第六章 总结与展望 | 第105-108页 |
| 参考文献 | 第108-116页 |
| 创新点摘要 | 第116-117页 |
| 攻读博士期间发表的学术论文 | 第117-118页 |
| 致谢 | 第118-119页 |
