| 内容提要 | 第1-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-18页 |
| ·引言 | 第7-9页 |
| ·光电子能谱在半导体材料领域的应用 | 第9-14页 |
| ·XPS 检测表面污染和杂质 | 第9-10页 |
| ·半导体异质结能带偏移量的光电子能谱测量 | 第10-12页 |
| ·光电子能谱在有机半导体方面的应用 | 第12-14页 |
| ·光电子能谱技术的发展 | 第14-16页 |
| ·本论文的主要工作 | 第16-18页 |
| 第二章 光电子能谱的基本理论 | 第18-42页 |
| ·光电子能谱仪 | 第18-25页 |
| ·射线源 | 第19-22页 |
| ·能量分析器 | 第22-24页 |
| ·检测器系统 | 第24页 |
| ·真空系统 | 第24-25页 |
| ·光电发射的基本理论 | 第25-30页 |
| ·概述 | 第25-26页 |
| ·芯能级光电发射 | 第26-28页 |
| ·价带光电发射 | 第28-29页 |
| ·光电子能谱的三步模型和一步模型 | 第29-30页 |
| ·光电子能谱的定性分析 | 第30-39页 |
| ·结合能的测量 | 第30-32页 |
| ·光电子能谱中谱峰的识别 | 第32-33页 |
| ·化学位移与荷电效应 | 第33-34页 |
| ·光电子能谱中的俄歇峰 | 第34-39页 |
| ·俄歇过程 | 第34-36页 |
| ·俄歇参数 | 第36-39页 |
| ·定量分析 | 第39-41页 |
| ·定量分析原理 | 第39-40页 |
| ·样品中元素分布的测定 | 第40-41页 |
| ·深度分布 | 第40-41页 |
| ·表面分布 | 第41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 ZnO 薄膜的光电子能谱研究 | 第42-60页 |
| ·ZnO 薄膜的研究进展 | 第42-43页 |
| ·ZnO 的荧光性质的研究 | 第43-46页 |
| ·ZnO 中的固有缺陷 | 第43-44页 |
| ·ZnO 的绿光性质的研究 | 第44-46页 |
| ·As 掺杂ZnO 薄膜的光电子能谱研究 | 第46-59页 |
| ·ZnO 的受主掺杂研究进展 | 第46-48页 |
| ·V 族大半径原子掺杂的机制 | 第48-50页 |
| ·ZnO:As 的光电子能谱研究 | 第50-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 ErF_3 掺杂近红外发光材料的光电子能谱研究 | 第60-79页 |
| ·近红外有机发光材料及器件研究现状 | 第60-62页 |
| ·ErF_3掺杂OLED 的制备及性能表征 | 第62-67页 |
| ·Alq_3与氟化物掺杂剂之间的相互作用 | 第67-76页 |
| ·Alq_3中LiF 掺杂机制的研究 | 第67-68页 |
| ·LiF 掺杂Alq_3的光电子能谱研究 | 第68-71页 |
| ·ErF_3 掺杂Alq_3的光电子能谱研究 | 第71-76页 |
| ·掺杂器件的发光过程 | 第76-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第五章 附加微量进气枪的光电子能谱仪对SnO_2基CO 气体传感器的在线研究 | 第79-98页 |
| ·前言 | 第79页 |
| ·金属氧化物半导体传感器传感机理的研究现状 | 第79-82页 |
| ·金属氧化物半导体传感器的传感机理 | 第79-81页 |
| ·目前存在的问题和本章思路 | 第81-82页 |
| ·光电子能谱仪的改造 | 第82-85页 |
| ·SnO_2基CO 气体传感器的在线研究 | 第85-97页 |
| ·SnO_2气敏材料的制备 | 第85-86页 |
| ·SnO_2 气敏材料的表征 | 第86-90页 |
| ·SnO_2基CO 气体传感器的光电子能谱研究 | 第90-97页 |
| ·本章小结 | 第97-98页 |
| 结论 | 第98-101页 |
| 参考文献 | 第101-115页 |
| 博士期间发表的论文 | 第115-116页 |
| 致谢 | 第116-117页 |
| 摘要 | 第117-120页 |
| Abstract | 第120-123页 |