摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
目录 | 第8-10页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
·引言 | 第10-11页 |
·磁性微纳米结构的应用前景及研究现状 | 第11-14页 |
·图形记录介质 | 第11-12页 |
·自旋电子器件 | 第12-14页 |
·本论文的研究工作和论文结构 | 第14-17页 |
参考文献 | 第17-20页 |
第2章 微磁学基础 | 第20-50页 |
·概述 | 第20-21页 |
·磁性纳米结构的制作 | 第21-32页 |
·电子束光刻 | 第23-25页 |
·X射线光刻 | 第25-26页 |
·全息光刻 | 第26页 |
·其他技术 | 第26-32页 |
·磁性微纳米结构的磁特性 | 第32-40页 |
·单个磁性纳米点的磁性 | 第34-39页 |
·阵列点的相互作用 | 第39-40页 |
·小结 | 第40-42页 |
参考文献 | 第42-50页 |
第3章 全息离子束刻蚀制作磁性微结构研究 | 第50-92页 |
·概述 | 第50-51页 |
·Co_(0.9)Fe_(0.1)薄膜生长 | 第51-54页 |
·Co_(0.9)Fe_(0.1)薄膜的特性 | 第51-52页 |
·Co_(0.9)Fe_(0.1)薄膜的磁控溅射生长 | 第52-54页 |
·全息光刻基础 | 第54-58页 |
·光刻胶涂覆工艺 | 第54-55页 |
·全息光刻 | 第55-58页 |
·二维光刻胶图形全息曝光、显影工艺 | 第58-66页 |
·基本实验条件 | 第58-59页 |
·正性光刻胶全息曝光与显影 | 第59-66页 |
·全息光刻垂直驻波的影响研究 | 第66-72页 |
·全息光刻垂直驻波的垂直驻波 | 第66-70页 |
·消除全息光刻中垂直驻波图形的方法 | 第70-71页 |
·光刻胶灰化工艺原理与实验 | 第71-72页 |
·制作特征尺寸100纳米左右光刻胶图形方法研究 | 第72-82页 |
·调节全息光刻参数获得100nm特征尺寸的光刻胶图形 | 第73-76页 |
·光刻胶灰化修减光刻胶图形研究 | 第76-82页 |
·全息光刻中的其它问题 | 第82-84页 |
·两相干光光强不同 | 第82页 |
·脱胶 | 第82-83页 |
·杂散光的影响 | 第83-84页 |
·离子束刻蚀与氧化防护研究 | 第84-88页 |
·离子束刻蚀物理基础 | 第85-86页 |
·离子束刻蚀后的磁性图形的氧化防护 | 第86-88页 |
·本章小结 | 第88-90页 |
参考文献 | 第90-92页 |
第4章 磁性微结构的XMCD研究 | 第92-112页 |
·XMCD简介 | 第92-97页 |
·XMCD的历史 | 第92-93页 |
·XMCD原理 | 第93-97页 |
·XMCD技术以及国家同步辐射实验室SXMCD实验站简介 | 第97-101页 |
·XMCD实验技术 | 第97-99页 |
·国家同步辐射实验室SXMCD实验站简介 | 第99-100页 |
·XMCD技术的应用 | 第100-101页 |
·Co_(0.9)Fe_(0.1)合金磁性微结构的XMCD研究 | 第101-110页 |
·Co_(0.9)Fe_(0.1)合金磁性微结构的XMCD谱采集条件 | 第101页 |
·一维Co_(0.9)Fe_(0.1)合金磁性微米线条结构XMCD研究 | 第101-105页 |
·二维Co_(0.9)Fe_(0.1)合金磁性深亚微米点的XMCD研究 | 第105-110页 |
·小结 | 第110-111页 |
参考文献 | 第111-112页 |
第5章 磁性二维点阵周期结构的磁性研究 | 第112-130页 |
·Co_(0.9)Fe_(0.1)磁性亚微米点阵周期结构的磁滞回线研究 | 第113-120页 |
·20nm厚Co_(0.9)Fe_(0.1)磁性亚微米点阵结构的SMOKE磁滞回线 | 第113-117页 |
·50nm厚Co_(0.9)Fe_(0.1)磁性亚微米点阵结构的SQUID磁滞回线 | 第117-120页 |
·Co_(0.9)Fe_(0.1)磁性亚微米点阵结构的磁力显微镜研究 | 第120-127页 |
·铁磁体的磁畴 | 第120-121页 |
·磁力显微镜原理 | 第121-122页 |
·MFM成像质量的影响因素 | 第122-124页 |
·Co_(0.9)Fe_(0.1)磁性亚微米点阵结构的MFM研究 | 第124-127页 |
·小结 | 第127-128页 |
参考文献 | 第128-130页 |
第6章 总结与展望 | 第130-132页 |
攻读博士期间发表的论文 | 第132-134页 |
致谢 | 第134页 |