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磁性微结构的制作及其特性研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-8页
目录第8-10页
第1章 绪论第10-20页
   ·引言第10-11页
   ·磁性微纳米结构的应用前景及研究现状第11-14页
     ·图形记录介质第11-12页
     ·自旋电子器件第12-14页
   ·本论文的研究工作和论文结构第14-17页
 参考文献第17-20页
第2章 微磁学基础第20-50页
   ·概述第20-21页
   ·磁性纳米结构的制作第21-32页
     ·电子束光刻第23-25页
     ·X射线光刻第25-26页
     ·全息光刻第26页
     ·其他技术第26-32页
   ·磁性微纳米结构的磁特性第32-40页
     ·单个磁性纳米点的磁性第34-39页
     ·阵列点的相互作用第39-40页
   ·小结第40-42页
 参考文献第42-50页
第3章 全息离子束刻蚀制作磁性微结构研究第50-92页
   ·概述第50-51页
   ·Co_(0.9)Fe_(0.1)薄膜生长第51-54页
     ·Co_(0.9)Fe_(0.1)薄膜的特性第51-52页
     ·Co_(0.9)Fe_(0.1)薄膜的磁控溅射生长第52-54页
   ·全息光刻基础第54-58页
     ·光刻胶涂覆工艺第54-55页
     ·全息光刻第55-58页
   ·二维光刻胶图形全息曝光、显影工艺第58-66页
     ·基本实验条件第58-59页
     ·正性光刻胶全息曝光与显影第59-66页
   ·全息光刻垂直驻波的影响研究第66-72页
     ·全息光刻垂直驻波的垂直驻波第66-70页
     ·消除全息光刻中垂直驻波图形的方法第70-71页
     ·光刻胶灰化工艺原理与实验第71-72页
   ·制作特征尺寸100纳米左右光刻胶图形方法研究第72-82页
     ·调节全息光刻参数获得100nm特征尺寸的光刻胶图形第73-76页
     ·光刻胶灰化修减光刻胶图形研究第76-82页
   ·全息光刻中的其它问题第82-84页
     ·两相干光光强不同第82页
     ·脱胶第82-83页
     ·杂散光的影响第83-84页
   ·离子束刻蚀与氧化防护研究第84-88页
     ·离子束刻蚀物理基础第85-86页
     ·离子束刻蚀后的磁性图形的氧化防护第86-88页
   ·本章小结第88-90页
 参考文献第90-92页
第4章 磁性微结构的XMCD研究第92-112页
   ·XMCD简介第92-97页
     ·XMCD的历史第92-93页
     ·XMCD原理第93-97页
   ·XMCD技术以及国家同步辐射实验室SXMCD实验站简介第97-101页
     ·XMCD实验技术第97-99页
     ·国家同步辐射实验室SXMCD实验站简介第99-100页
     ·XMCD技术的应用第100-101页
   ·Co_(0.9)Fe_(0.1)合金磁性微结构的XMCD研究第101-110页
     ·Co_(0.9)Fe_(0.1)合金磁性微结构的XMCD谱采集条件第101页
     ·一维Co_(0.9)Fe_(0.1)合金磁性微米线条结构XMCD研究第101-105页
     ·二维Co_(0.9)Fe_(0.1)合金磁性深亚微米点的XMCD研究第105-110页
   ·小结第110-111页
 参考文献第111-112页
第5章 磁性二维点阵周期结构的磁性研究第112-130页
   ·Co_(0.9)Fe_(0.1)磁性亚微米点阵周期结构的磁滞回线研究第113-120页
     ·20nm厚Co_(0.9)Fe_(0.1)磁性亚微米点阵结构的SMOKE磁滞回线第113-117页
     ·50nm厚Co_(0.9)Fe_(0.1)磁性亚微米点阵结构的SQUID磁滞回线第117-120页
   ·Co_(0.9)Fe_(0.1)磁性亚微米点阵结构的磁力显微镜研究第120-127页
     ·铁磁体的磁畴第120-121页
     ·磁力显微镜原理第121-122页
     ·MFM成像质量的影响因素第122-124页
     ·Co_(0.9)Fe_(0.1)磁性亚微米点阵结构的MFM研究第124-127页
   ·小结第127-128页
 参考文献第128-130页
第6章 总结与展望第130-132页
攻读博士期间发表的论文第132-134页
致谢第134页

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