| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-34页 |
| ·形状记忆合金 | 第11-13页 |
| ·形状记忆合金及其研究进展 | 第11页 |
| ·Ti-Ni_(1-x)-X_x高温形状记忆合金 | 第11-13页 |
| ·薄膜及制备方法 | 第13-24页 |
| ·薄膜制备的真空技术基础 | 第13-14页 |
| ·薄膜的制备技术 | 第14-22页 |
| ·薄膜的形核与生长 | 第22-23页 |
| ·薄膜的结构缺陷 | 第23页 |
| ·薄膜的种类和应用 | 第23-24页 |
| ·形状记忆合金及其薄膜的应用 | 第24-28页 |
| ·形状记忆合金的应用 | 第24页 |
| ·Ni-Ti合金薄膜的应用 | 第24-28页 |
| ·国内外研究现状及相关领域成果 | 第28-32页 |
| ·相变行为 | 第28-31页 |
| ·形状记忆效应 | 第31-32页 |
| ·选题意义及本文主要研究工作 | 第32-34页 |
| ·选题意义 | 第32-33页 |
| ·本文主要研究工作 | 第33-34页 |
| 第2章 试验材料及试验方法 | 第34-40页 |
| ·试验材料 | 第34页 |
| ·薄膜的制备 | 第34-39页 |
| ·薄膜的制备设备 | 第34-35页 |
| ·薄膜制备方案 | 第35-37页 |
| ·基片的选择与处理 | 第37-38页 |
| ·薄膜制备过程 | 第38-39页 |
| ·薄膜分析测试方法 | 第39页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第39页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第39页 |
| ·X射线衍射分析 | 第39页 |
| ·DSC差示扫描量热仪 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第3章 Ni-Ti合金薄膜性能测试及理论分析 | 第40-50页 |
| ·Ni-Ti合金薄膜成分测定 | 第40-41页 |
| ·Ni-Ti合金薄膜X射线衍射分析 | 第41-44页 |
| ·Ni-Ti合金薄膜DSC测试 | 第44-45页 |
| ·Ni-Ti合金薄膜薄膜形貌观察 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 Ni-Ti-Hf-Cu合金薄膜制备工艺的优化 | 第50-69页 |
| ·双靶制膜工艺的分析 | 第50-53页 |
| ·单靶制膜工艺的分析 | 第53-67页 |
| ·磁控溅射工艺对薄膜厚度的影响 | 第53-57页 |
| ·Ni-Ti-Hf-Cu合金薄膜的表面特性 | 第57页 |
| ·磁控溅射工艺对薄膜表面的影响 | 第57-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第5章 Ni-Ti-Hf-Cu合金薄膜成分及结构的表征 | 第69-76页 |
| ·Ni-Ti-Hf-Cu合金薄膜成分分析 | 第69-73页 |
| ·双靶制得的样品成分分析 | 第69-70页 |
| ·单靶制得的样品成分分析 | 第70-73页 |
| ·XRD测试分析 | 第73-74页 |
| ·DSC测试分析 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 结论 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |