| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·纳米多层膜 | 第9-13页 |
| ·纳米多层膜研究现状与进展 | 第9-10页 |
| ·纳米多层膜的力学性能 | 第10-13页 |
| ·纳米复合膜 | 第13-15页 |
| ·纳米多层膜的理论解释 | 第15-19页 |
| ·选题意义与研究内容 | 第19-21页 |
| ·选题意义 | 第19页 |
| ·研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 AlN/Si_3N_4纳米多层膜及Zr-Si-N 复合膜的制备与表征方法 | 第21-30页 |
| ·薄膜的制备方法与实验设备 | 第21-24页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第21-23页 |
| ·实验设备 | 第23页 |
| ·薄膜基片处理方法 | 第23-24页 |
| ·薄膜检测方法与检测设备 | 第24-30页 |
| ·薄膜的表面形貌的表征 | 第24页 |
| ·薄膜的微观结构的表征 | 第24-26页 |
| ·薄膜的化学成分分析 | 第26页 |
| ·薄膜的力学性能的表征 | 第26-30页 |
| 第三章 AlN/Si_3N_4纳米多层膜的微结构与力学性能 | 第30-45页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·实验过程 | 第31-32页 |
| ·AlN/Si_3N_4 纳米多层膜的制备 | 第31-32页 |
| ·测试设备及方法 | 第32页 |
| ·AlN/Si_3N_4 纳米多层膜的测试结果 | 第32-39页 |
| ·AlN/Si_3N_4 纳米多层膜的微结构 | 第32-36页 |
| ·AlN/Si_3N_4 纳米多层膜的力学性能 | 第36-37页 |
| ·AlN/Si_3N_4 纳米多层膜及单层膜的表面形貌 | 第37-39页 |
| ·AlN/Si_3N_4 纳米多层膜的生长结构的讨论 | 第39-40页 |
| ·AlN/Si_3N_4 纳米多层膜中 Si_3N_4 层晶化的临界厚度的计算 | 第40-42页 |
| ·AlN/Si_3N_4 纳米多层膜的超硬机理讨论 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 磁控共溅射制备 Zr-Si-N 复合薄膜的微结构与性能 | 第45-53页 |
| ·引 言 | 第45-46页 |
| ·实验过程 | 第46页 |
| ·Zr-Si-N 复合膜的测试结果 | 第46-51页 |
| ·薄膜的成分与微结构 | 第46-47页 |
| ·薄膜的抗氧化性能 | 第47-50页 |
| ·薄膜的力学性能 | 第50-51页 |
| ·Zr-Si-N 复合膜的强化机制 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读硕士期间论文发表情况 | 第63-64页 |
| 详细摘要 | 第64-69页 |
