二氧化硅型可见光波段刻蚀衍射光栅的研究
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10-12页 |
| 1.2 片上分光器件的技术研究 | 第12-20页 |
| 1.2.1 基于平面集成波导光栅的分光器件 | 第12-16页 |
| 1.2.2 基于微环和光子晶体的分光器件 | 第16-18页 |
| 1.2.3 基于光谱重构技术的分光器件 | 第18-20页 |
| 1.3 本论文的主要研究内容和章节安排 | 第20-22页 |
| 2 刻蚀衍射光栅的原理、设计与仿真 | 第22-32页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 EDG的基本原理和重要参数 | 第22-25页 |
| 2.3 一点法、两点法和三点法设计的比较 | 第25-29页 |
| 2.4 EDG的数值仿真 | 第29-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-32页 |
| 3 二氧化硅型可见光波段刻蚀衍射光栅的设计 | 第32-52页 |
| 3.1 可见光波段EDG的常规设计 | 第32-38页 |
| 3.1.1 整体设计流程 | 第33-36页 |
| 3.1.2 主要设计参数 | 第36-37页 |
| 3.1.3 仿真结果及分析 | 第37-38页 |
| 3.2 可见光波段EDG设计的问题分析 | 第38-45页 |
| 3.2.1 衔接面过小的问题 | 第38-44页 |
| 3.2.2 损耗不均匀的问题 | 第44-45页 |
| 3.3 损耗均匀的可见光波段EDG | 第45-48页 |
| 3.3.1 两步优化方案 | 第45-46页 |
| 3.3.2 仿真结果及分析 | 第46-48页 |
| 3.4 跨衍射级次的可见光波段EDG | 第48-50页 |
| 3.4.1 主要设计参数 | 第48-49页 |
| 3.4.2 仿真结果及分析 | 第49-50页 |
| 3.5 本章小结 | 第50-52页 |
| 4 二氧化硅型可见光波段刻蚀衍射光栅的制作及测试 | 第52-66页 |
| 4.1 引言 | 第52页 |
| 4.2 可见光波段EDG的制作工艺研究 | 第52-62页 |
| 4.2.1 掩膜设计 | 第52-53页 |
| 4.2.2 整体工艺流程 | 第53-55页 |
| 4.2.3 关键制作工艺 | 第55-61页 |
| 4.2.4 各步工艺参数 | 第61-62页 |
| 4.3 可见光波段EDG的制作结果及测试分析 | 第62-65页 |
| 4.3.1 可见光波段EDG的制作结果 | 第62-63页 |
| 4.3.2 可见光波段EDG的测试分析 | 第63-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 5 绝缘体上硅型刻蚀衍射光栅的制作及测试 | 第66-72页 |
| 5.1 SOI_EDG的制作工艺研究 | 第66-68页 |
| 5.1.1 掩膜设计 | 第66-67页 |
| 5.1.2 整体工艺流程 | 第67-68页 |
| 5.1.3 关键制作工艺 | 第68页 |
| 5.2 SOI_EDG的制作结果及测试分析 | 第68-70页 |
| 5.2.1 SOI_EDG的制作结果 | 第68-69页 |
| 5.2.2 SOI_EDG的测试分析 | 第69-70页 |
| 5.3 本章小结 | 第70-72页 |
| 6 总结与展望 | 第72-75页 |
| 6.1 本文总结 | 第72-73页 |
| 6.2 工作展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-83页 |
| 作者简介 | 第83页 |
