| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·磁记录概述 | 第10-14页 |
| ·硬盘发展历史与现状 | 第10-11页 |
| ·硬盘磁记录原理 | 第11-12页 |
| ·硬盘磁记录基本概念 | 第12-14页 |
| ·磁记录技术面临的问题及解决方法 | 第14-18页 |
| ·传统磁记录技术遇到的问题 | 第14-15页 |
| ·克服超顺磁效应的方法 | 第15-18页 |
| ·高密度磁记录介质的要求 | 第18-23页 |
| ·磁性能要求 | 第18-20页 |
| ·显微组织要求 | 第20-22页 |
| ·织构控制 | 第22-23页 |
| ·磁记录介质研究现状 | 第23-26页 |
| ·Co基合金 | 第23-24页 |
| ·稀土-过渡金属合金 | 第24-25页 |
| ·L1_0有序结构合金 | 第25-26页 |
| ·Co-Pt合金研究进展及本课题的创新性 | 第26-30页 |
| ·Co-Pt及Co-Pt-P研究现状 | 第26-27页 |
| ·本课题的创新性及研究内容 | 第27-30页 |
| 第二章 实验方法 | 第30-36页 |
| ·溅射薄膜制备 | 第30-31页 |
| ·电沉积Co-P靶材 | 第31页 |
| ·实验工艺 | 第31页 |
| ·实验步骤 | 第31页 |
| ·薄膜的性能表征 | 第31-34页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第31-32页 |
| ·薄膜磁性测量 | 第32-33页 |
| ·薄膜结构、成分的表征 | 第33-34页 |
| ·实验过程 | 第34-36页 |
| 第三章 电沉积Co-P靶材 | 第36-46页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·电沉积原理 | 第36-38页 |
| ·电沉积Co-P研究进展 | 第38-39页 |
| ·实验过程 | 第39-40页 |
| ·实验结果与分析 | 第40-44页 |
| ·阴极材料对镀层形貌的影响 | 第40页 |
| ·电流方式对镀层形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·阴极电流密度镀层形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·阴极电流密度对P含量的影响 | 第42-44页 |
| ·Co-P镀层的晶体结构 | 第44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 Co-Pt及Co-Pt-P溅射薄膜研究 | 第46-58页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验过程及工艺 | 第46-48页 |
| ·实验过程 | 第46页 |
| ·薄膜中P,Pt含量的确定 | 第46-48页 |
| ·Co-12at.%Pt薄膜的磁性能 | 第48-50页 |
| ·基板温度对Co-12at.%Pt矫顽力的影响 | 第48-50页 |
| ·Co-12at.%Pt-P薄膜磁性能 | 第50-57页 |
| ·P含量对薄膜磁性能的影响 | 第50-53页 |
| ·基板温度对Co-12at.%Pt-P薄膜磁性的影响 | 第53-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 结论与展望 | 第58-60页 |
| ·结论 | 第58-59页 |
| ·课题展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 硕士期间发表论文 | 第68页 |