| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·ZnO 研究的意义 | 第8页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第8-11页 |
| ·ZnO的研究现状 | 第11-12页 |
| ·ZnO研究存在的问题和发展趋势 | 第12页 |
| ·本论文的工作内容 | 第12-14页 |
| 第二章 ZnO制备的主要设备、方法及其形貌结构介绍 | 第14-24页 |
| ·制备ZnO薄膜主要设备及方法介绍 | 第14-17页 |
| ·纳米ZnO的表面形貌和结构 | 第17-24页 |
| 第三章 ZnO薄膜的制备 | 第24-28页 |
| ·射频原子源辅助分子束外延（RF-MBE）设备 | 第24页 |
| ·衬底的选择及清洗 | 第24-25页 |
| ·ZnO 薄膜制备的条件优化 | 第25-27页 |
| ·高质量ZnO 薄膜的制备 | 第27-28页 |
| 第四章 ZnO 薄膜的结构及其发光特性研究 | 第28-32页 |
| ·ZnO薄膜的XRD衍射 | 第28-29页 |
| ·ZnO 薄膜的Raman 散射 | 第29页 |
| ·ZnO 薄膜的吸收特性 | 第29-30页 |
| ·ZnO 薄膜的发光特性 | 第30-32页 |
| 第五章 结论 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-38页 |
| 索引 | 第38-39页 |
| 作者简介 | 第39-40页 |