| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·光学薄膜的发展 | 第7页 |
| ·研究激光偏振膜的目的及意义 | 第7-8页 |
| ·激光偏振膜的国内外现状 | 第8-9页 |
| ·主要研究内容 | 第9-10页 |
| 第二章 薄膜光学的基本理论 | 第10-18页 |
| ·薄膜干涉 | 第10-13页 |
| ·薄膜光学的特性计算 | 第13-18页 |
| 第三章 平板偏振膜的理论设计与损耗分析 | 第18-30页 |
| ·薄膜材料的选择 | 第18-20页 |
| ·膜系设计 | 第20-23页 |
| ·低损耗激光偏振膜的分析 | 第23-29页 |
| ·抗激光损伤阈值的分析 | 第29-30页 |
| 第四章 实验工艺 | 第30-43页 |
| ·实验设备及原理简介 | 第30-35页 |
| ·基片表面的粗糙度与洁净度 | 第35-36页 |
| ·镀制工艺 | 第36-39页 |
| ·影响光学薄膜稳定性的因素 | 第39-43页 |
| 第五章 测试结果与误差分析 | 第43-46页 |
| ·测试结果 | 第43-44页 |
| ·误差分析 | 第44-46页 |
| 结论 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |