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偏端霉素类似物合成及其质谱裂解规律研究

摘要第1-4页
Abstract第4-6页
目录第6-8页
第一章 前言第8-26页
   ·双苯并咪唑类似物第9-10页
     ·Hoechst 33258类似物第9-10页
     ·苯骈二氮杂卓(艹卓)第10页
   ·Lexitropsin结构类似物第10-24页
     ·偏端霉素及其类似物第10-20页
       ·α—溴代丙烯酰胺偏端霉素衍生物第12-14页
       ·苯甲酸氮芥偏端霉素衍生物第14-16页
       ·他莫司汀杂环类似物第16-18页
       ·偏端霉素杂环类似物第18-20页
     ·其它Lexitropsin结构类似物第20-24页
       ·Lexitropsin甲酰亚氨基偶联物第20-21页
       ·Lexitropsin聚合体类第21-22页
       ·双纺锤霉素铂化类似物第22-23页
       ·双Lexitropsin米托蒽醌偶联物第23页
       ·Lexitropsin蒽醌偶联物第23-24页
   ·本硕士论文的提出背景及研究内容第24-26页
第二章 偏端霉素类似物的合成研究第26-38页
   ·引言第26-28页
   ·试剂和仪器第28-29页
   ·合成部分第29-35页
     ·硝基吡咯—氨基酸甲酯缀合物合成第29-31页
     ·硝基吡咯—氨基酸甲酯四聚体合成第31-32页
     ·乙氧正丁氧基磷酰吡咯—氨基酸甲酯合成第32-34页
     ·氮芥磷酰吡咯—氨基酸甲酯合成第34-35页
   ·结果与讨论第35-38页
第三章 化合物核磁与质谱裂解途径分析第38-50页
   ·化合物核磁表征规律第38-40页
   ·化合物质谱表征第40-49页
     ·第一类化合物:硝基吡咯-氨基酸甲酯的加氢峰质谱分析第40-43页
     ·第二类化合物:三聚吡咯-氨基酸甲酯的去氢峰质谱分析第43-44页
     ·第三类化合物:磷酸酯-吡咯-氨基酸甲酯的加氢峰质谱分析第44-47页
     ·第四类化合物:氮芥吡咯酰胺类化合物正离子多级质谱解析第47-49页
   ·化合物的红外特征第49-50页
第四章 结论第50-51页
参考文献第51-57页
硕士期间发表的论文第57-58页
致谢第58页

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