| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-45页 |
| ·镁合金概述 | 第13-15页 |
| ·镁合金的传统表面处理方法 | 第15-16页 |
| ·化学转化 | 第15页 |
| ·阳极氧化 | 第15-16页 |
| ·微弧氧化技术 | 第16-21页 |
| ·微弧氧化技术概述 | 第16-17页 |
| ·常用的微弧氧化处理液 | 第17-18页 |
| ·国内外研究进展 | 第18-21页 |
| ·高能束流处理技术 | 第21-33页 |
| ·激光表面处理技术 | 第22页 |
| ·电子束表面处理技术 | 第22-27页 |
| ·离子束表面处理技术 | 第27-33页 |
| ·课题的提出、研究意义及研究内容 | 第33-36页 |
| ·课题的提出 | 第33页 |
| ·研究意义 | 第33-35页 |
| ·研究内容 | 第35-36页 |
| 本章参考文献 | 第36-45页 |
| 第二章 镁合金微弧氧化处理 | 第45-80页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·实验材料、方法与设备 | 第46-51页 |
| ·实验材料 | 第46页 |
| ·微弧氧化处理 | 第46-49页 |
| ·微弧氧化陶瓷层厚度测量 | 第49页 |
| ·微弧氧化陶瓷层绝缘电阻测量 | 第49页 |
| ·微弧氧化陶瓷层表面粗糙度测量 | 第49页 |
| ·微弧氧化陶瓷层形貌观察 | 第49页 |
| ·微弧氧化陶瓷层相分析 | 第49-50页 |
| ·微弧氧化陶瓷层纳米压痕测量 | 第50页 |
| ·微弧氧化陶瓷层摩擦磨损性能测试 | 第50-51页 |
| ·微弧氧化陶瓷层腐蚀性能测试 | 第51页 |
| ·实验结果及分析 | 第51-76页 |
| ·处理时间和溶液浓度对微弧氧化陶瓷层厚度的影响 | 第51-54页 |
| ·处理时间和溶液浓度对微弧氧化陶瓷层绝缘电阻的影响 | 第54-56页 |
| ·处理时间和溶液浓度对微弧氧化陶瓷层表面粗糙度的影响 | 第56-58页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的形貌与相组成 | 第58-65页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的耐腐蚀性能 | 第65-69页 |
| ·微弧氧化陶瓷层纳米硬度及模量 | 第69-73页 |
| ·微弧氧化陶瓷层摩擦磨损实验 | 第73-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 本章参考文献 | 第78-80页 |
| 第三章 镁合金电子束表面改性形貌与性能 | 第80-103页 |
| ·引言 | 第80页 |
| ·实验材料、设备与方法 | 第80-86页 |
| ·实验材料 | 第80-81页 |
| ·SoLo-强流脉冲电子束设备 | 第81-84页 |
| ·设备参数 | 第84页 |
| ·电子束与材料表面的相互作用 | 第84-86页 |
| ·实验方法 | 第86页 |
| ·实验结果及分析 | 第86-100页 |
| ·工艺参数对电子束处理层厚度的影响 | 第86-90页 |
| ·电子束处理层的表面形貌与相组成 | 第90-97页 |
| ·电子束处理层的性能 | 第97-100页 |
| ·本章小结 | 第100-101页 |
| 本章参考文献 | 第101-103页 |
| 第四章 镁合金离子束表面改性形貌与性能研究 | 第103-129页 |
| ·引言 | 第103页 |
| ·实验材料、原理、方法与设备 | 第103-112页 |
| ·实验材料 | 第103-104页 |
| ·离子束和材料表面作用机理 | 第104-106页 |
| ·TIA-450碳离子加速器基本结构 | 第106-111页 |
| ·实验工艺参数 | 第111-112页 |
| ·实验结果及分析 | 第112-125页 |
| ·工艺参数对离子束处理层厚度的影响 | 第112-118页 |
| ·离子束处理表面形貌分析 | 第118-121页 |
| ·离子束处理表面层性能 | 第121-125页 |
| ·本章小结 | 第125-127页 |
| 本章参考文献 | 第127-129页 |
| 第五章 结论 | 第129-131页 |
| 在学研究成果 | 第131-133页 |
| 致谢 | 第133页 |