| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·多弧离子镀技术 | 第10-20页 |
| ·真空弧光放电过程 | 第12-13页 |
| ·多弧离子镀的特点 | 第13-14页 |
| ·多弧离子镀的设备及工艺 | 第14-15页 |
| ·多弧离子镀的发展 | 第15-16页 |
| ·多弧离子镀的应用 | 第16-18页 |
| ·多弧离子镀技术存在的问题 | 第18-20页 |
| ·TiAIN陶瓷层的制备及其性能研究的发展与现状 | 第20-23页 |
| ·TiAlN陶瓷层的应用 | 第21页 |
| ·TiAlN陶瓷层技术的发展趋势 | 第21-22页 |
| ·TiAlN涂层材料摩擦磨损性能 | 第22-23页 |
| ·本课题研究的意义及内容 | 第23-24页 |
| ·本课题研究的意义 | 第23页 |
| ·本课题研究的内容 | 第23-24页 |
| 第二章 试验材料及研究方法 | 第24-29页 |
| ·试验材料 | 第24页 |
| ·基体材料 | 第24页 |
| ·涂层材料 | 第24页 |
| ·多弧离子镀工艺 | 第24-25页 |
| ·试验前基体试样的预处理 | 第24-25页 |
| ·多弧离子镀工艺 | 第25页 |
| ·显微组织观察 | 第25页 |
| ·相组成分析 | 第25页 |
| ·显微硬度测量 | 第25页 |
| ·膜基结合力测试 | 第25-27页 |
| ·涂层微动磨损试验 | 第27-29页 |
| 第三章 试验结果与分析 | 第29-60页 |
| ·偏压对氮化钛铝陶瓷涂层组织、结构及成分的影响 | 第29-35页 |
| ·偏压对氮化钛铝陶瓷涂层组织的影响 | 第29-33页 |
| ·偏压对氮化钛铝陶瓷涂层成分的影响 | 第33-34页 |
| ·偏压对氮化钛铝陶瓷涂层相组成的影响 | 第34-35页 |
| ·显微硬度的测定 | 第35-38页 |
| ·氮化钛铝陶瓷涂层显微硬度的测定 | 第35页 |
| ·膜基体系硬度与基材硬度比值(膜基硬度比)测定 | 第35-38页 |
| ·膜基结合力的评价 | 第38-46页 |
| ·偏压对膜基结合力的影响 | 第38-41页 |
| ·基体硬度对膜基结合力的影响 | 第41-42页 |
| ·划痕组织形貌成分分析 | 第42-46页 |
| ·多弧离子镀最佳工艺的确定 | 第46-47页 |
| ·氮化钛铝陶瓷涂层磨损性能的评价 | 第47-60页 |
| ·纯Ti及其表面TiAlN膜层滑动及微动磨损性能 | 第47-53页 |
| ·Ti6Al4V及其表面TiAlN膜层滑动及微动磨损性能 | 第53-59页 |
| ·TiAlN涂层磨损机制 | 第59-60页 |
| 第四章 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 在学研究成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |