多层膜声表面波器件LiNbO3、h-BN薄膜的制备及分析
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·前言 | 第9页 |
| ·声表面波技术与声表面波器件 | 第9-14页 |
| ·声表面波及其技术的发展 | 第9-10页 |
| ·声表面波滤波器的原理及其应用发展 | 第10-13页 |
| ·声表面波滤波器的发展趋势 | 第13-14页 |
| ·本文的立项依据和主要工作 | 第14-16页 |
| 第二章 金刚石多层膜声表面波器件 | 第16-24页 |
| ·引言 | 第16-17页 |
| ·金刚石 | 第17-21页 |
| ·金刚石的基本结构与性质 | 第17-18页 |
| ·金刚石与不同压电薄膜的结合特点 | 第18-20页 |
| ·金刚石的制备及发展应用前景 | 第20-21页 |
| ·金刚石/压电薄膜/IDT多层膜高频声表面波器件 | 第21-24页 |
| ·金刚石SAW器件的基本构造和理论研究进展 | 第21-22页 |
| ·金刚石SAW器件的材料研究 | 第22-23页 |
| ·高频金刚石SAW器件的未来展望 | 第23-24页 |
| 第三章 射频磁控溅射原理 | 第24-33页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·射频溅射 | 第24-28页 |
| ·辉光放电及其物理基础 | 第24-26页 |
| ·溅射原理 | 第26-27页 |
| ·射频溅射特点及溅射膜的结构 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射 | 第28-30页 |
| ·溅射过程 | 第29-30页 |
| ·溅射粒子的成膜过程 | 第30-31页 |
| ·射频溅射系统 | 第31-33页 |
| 第四章 不同衬底上溅射沉积铌酸锂薄膜 | 第33-54页 |
| ·铌酸锂 | 第33-38页 |
| ·铌酸锂的结构及特性 | 第33-35页 |
| ·铌酸锂薄膜的研究进展 | 第35-36页 |
| ·铌酸锂薄膜的应用及发展前景 | 第36-38页 |
| ·实验过程 | 第38-42页 |
| ·实验所用靶材 | 第38-39页 |
| ·衬低清洗 | 第39-40页 |
| ·参数设计及溅射实验过程 | 第40-41页 |
| ·XRD测试原理及分析手段 | 第41-42页 |
| ·衬底温度对铌酸锂薄膜的影响 | 第42-46页 |
| ·实验方法及结果 | 第42-45页 |
| ·实验结果讨论 | 第45-46页 |
| ·功率对铌酸锂薄膜的影响 | 第46-50页 |
| ·实验方法及结果 | 第46-49页 |
| ·实验结果讨论 | 第49-50页 |
| ·在硅衬底上溅射沉积铌酸锂薄膜 | 第50-52页 |
| ·靶材的准备及硅片的清洗 | 第50-51页 |
| ·气压对铌酸锂薄膜的影响 | 第51-52页 |
| ·不同靶材对铌酸锂薄膜的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 金刚石衬底上氮化硼薄膜沉积初探 | 第54-61页 |
| ·引言 | 第54-58页 |
| ·氮化硼的相 | 第54-55页 |
| ·六方氮化硼的结构，性质和应用 | 第55-56页 |
| ·h-BN /Diamond多层薄膜结构 | 第56-57页 |
| ·溅射沉积氮化硼薄膜面临的问题 | 第57-58页 |
| ·实验过程及实验结果 | 第58-60页 |
| ·衬底和靶材准备 | 第58页 |
| ·实验参数的设计及实验过程 | 第58-59页 |
| ·实验结果及讨论 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 结论与未来展望 | 第61-63页 |
| ·小结 | 第61页 |
| ·未来展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 参与科研 | 第66页 |
| 发表论文 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
