摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-13页 |
第1章 绪论 | 第13-30页 |
·引言 | 第13-14页 |
·低温气相沉积方法 | 第14-18页 |
·磁控溅射低温沉积 | 第15-16页 |
·离子束注入辅助蒸发低温沉积 | 第16-18页 |
·低温气相沉积技术的研究动态 | 第18-21页 |
·基体温度对气相沉积薄膜结构和性能的影响 | 第21-26页 |
·基体温度对气相沉积薄膜结构的影响 | 第21-24页 |
·基体温度对气相沉积薄膜性能的影响 | 第24-26页 |
·聚合物低温气相沉积问题 | 第26-28页 |
·本论文的研究内容 | 第28-30页 |
第2章 低温磁控溅射TiN薄膜沉积工艺研究 | 第30-66页 |
·磁控溅射工艺参数对 TiN薄膜性能的影响 | 第30-31页 |
·磁控溅射低温沉积工艺 | 第31-36页 |
·试验基体材料 | 第31-32页 |
·试验装置 | 第32-33页 |
·基本工艺设计 | 第33-36页 |
·工艺参数对低温磁控溅射薄膜基体温度的影响 | 第36-39页 |
·离子刻蚀对基体温度的影响 | 第36-37页 |
·负偏压对基体温度的影响 | 第37-38页 |
·磁控溅射靶的磁场性能对基体温度的影响 | 第38-39页 |
·工艺参数对低温磁控溅射薄膜表面形貌的影响 | 第39-44页 |
·低温磁控溅射 TiN薄膜的表面形貌 | 第39-40页 |
·负偏压对薄膜表面形貌的影响 | 第40-41页 |
·基体表面加工状态(粗糙度)对薄膜表面形貌的影响 | 第41-44页 |
·离子刻蚀对薄膜表面形貌的影响 | 第44页 |
·工艺参数对低温磁控溅射薄膜硬度的影响 | 第44-49页 |
·低温磁控溅射 TiN薄膜的纳米硬度 | 第44-47页 |
·负偏压对薄膜硬度的影响 | 第47-48页 |
·中间过渡层对薄膜硬度的影响 | 第48-49页 |
·工艺参数对低温磁控溅射薄膜色泽的影响 | 第49-50页 |
·工艺参数对低温磁控溅射薄膜界面结合强度的影响 | 第50-53页 |
·基体粗糙度对薄膜结合强度的影响 | 第51页 |
·负偏压对薄膜结合强度的影响 | 第51-52页 |
·中间过渡层对薄膜结合强度的影响 | 第52页 |
·基体材料硬度对薄膜结合强度的影响 | 第52-53页 |
·离子刻蚀对薄膜结合强度的影响 | 第53页 |
·磁控溅射的低温沉积计算模型 | 第53-65页 |
·导致基体温度上升的主要因素 | 第53-58页 |
·导致基体温度下降的主要因素 | 第58-60页 |
·磁控溅射条件下的基体温度计算 | 第60-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
第3章 低温磁控溅射 TiN薄膜摩擦学性能研究 | 第66-85页 |
·试验方法 | 第66-67页 |
·低温磁控溅射 TiN薄膜对基体耐磨性能的提高 | 第67-70页 |
·低温磁控溅射与多弧离子镀 TiN薄膜的摩擦学性能比较 | 第70-74页 |
·负偏压对 TiN薄膜摩擦学性能的影响 | 第74-76页 |
·基体粗糙度对 TiN薄膜摩擦学性能的影响 | 第76-78页 |
·离子刻蚀对 TiN薄膜摩擦学性能的影响 | 第78-79页 |
·薄膜多层结构对薄膜摩擦学性能的影响 | 第79-83页 |
·本章小结 | 第83-85页 |
第4章 碳离子束注入辅助蒸发沉积 DLC薄膜工艺研究 | 第85-95页 |
·碳离子束注入辅助蒸发低温沉积工艺 | 第85-89页 |
·试验样品 | 第85-86页 |
·DLC薄膜沉积装置 | 第86-87页 |
·DLC薄膜的低温沉积工艺 | 第87-89页 |
·试验结果与讨论 | 第89-93页 |
·表面形貌分析 | 第89页 |
·表面成分分析 | 第89-90页 |
·薄膜的结构分析 | 第90-91页 |
·电阻率测量 | 第91-92页 |
·表面硬度及弹性模量测试 | 第92-93页 |
·本章小结 | 第93-95页 |
第5章 碳离子束注入辅助蒸发沉积 DLC薄膜的摩擦学性能研究 | 第95-105页 |
·弹簧钢基体表面沉积 DLC薄膜的摩擦学性能研究 | 第95-97页 |
·摩擦学性能测试条件 | 第95页 |
·摩擦学性能测试结果 | 第95-96页 |
·磨损表面形貌分析 | 第96-97页 |
·Ti6Al4V基体表面沉积 DLC薄膜的摩擦学性能研究 | 第97-103页 |
·微摩擦试验条件 | 第97-98页 |
·微摩擦性能测试结果 | 第98-100页 |
·磨损表面形貌分析 | 第100页 |
·对偶件表面粗糙度对 DLC薄膜摩擦学性能的影响 | 第100-101页 |
·对偶件表面润湿性对 DLC薄膜摩擦学性能的影响 | 第101-103页 |
·本章小结 | 第103-105页 |
第6章 聚合物表面低温沉积工艺研究 | 第105-118页 |
·环氧树脂基聚合物表面低温复合薄膜工艺研究 | 第105-115页 |
·聚合物基体预处理工艺 | 第105-108页 |
·低温磁控溅射镀铜工艺 | 第108-113页 |
·电镀沉积低应力镍后处理工艺 | 第113-115页 |
·低温复合薄膜的表面形貌观察 | 第115页 |
·低温复合薄膜的摩擦学性能测试 | 第115-116页 |
·本章小结 | 第116-118页 |
第7章 结论与展望 | 第118-122页 |
·全文主要结论 | 第118-121页 |
·对今后工作的展望 | 第121-122页 |
致谢 | 第122-123页 |
参考文献 | 第123-130页 |
附录 | 第130-131页 |
附录A 攻读博士期间发表的论文 | 第130-131页 |
附录B 攻读博士期间参加的科研项目 | 第131页 |
附录C 攻读博士期间获奖的科研项目 | 第131页 |