碳纳米管阵列电泳法制备及场发射特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·课题研究背景 | 第10-11页 |
| ·碳纳米管简介 | 第11-13页 |
| ·碳纳米管场致发射 | 第13-19页 |
| ·场致发射基本理论 | 第13-16页 |
| ·碳纳米管场发射机理 | 第16-18页 |
| ·碳纳米管阴极场发射性能的影响因素 | 第18页 |
| ·评价场发射的性能指标 | 第18-19页 |
| ·碳纳米管场发射研究进展 | 第19-21页 |
| ·课题研究意义 | 第21-22页 |
| ·本论文的主要工作 | 第22-24页 |
| 第二章 碳纳米管场发射阴极的结构和制备工艺 | 第24-31页 |
| ·碳纳米管阴极平栅极结构 | 第24-27页 |
| ·碳纳米管阴极制备工艺 | 第27-28页 |
| ·碳纳米管薄膜场发射性能测试 | 第28-31页 |
| ·场发射测试系统 | 第28-29页 |
| ·场发射测试装置前期处理 | 第29-31页 |
| 第三章 平栅极结构阴极的制备 | 第31-42页 |
| ·基片的清洗 | 第31-32页 |
| ·基片表面沾污 | 第31-32页 |
| ·基片清洗工艺 | 第32页 |
| ·光刻工艺 | 第32-38页 |
| ·光刻工艺概述 | 第32-33页 |
| ·光刻工艺流程 | 第33-35页 |
| ·实验结果与分析 | 第35-38页 |
| ·刻蚀工艺 | 第38-42页 |
| ·刻蚀工艺概述 | 第38-39页 |
| ·刻蚀实验简介 | 第39页 |
| ·实验结果与分析 | 第39-42页 |
| 第四章 电泳沉积碳纳米管薄膜及场发射性能测试 | 第42-68页 |
| ·电泳沉积简介 | 第42页 |
| ·电泳液的配制 | 第42-49页 |
| ·电泳液配制原理 | 第42-43页 |
| ·原材料的选择 | 第43-46页 |
| ·实验结果与分析 | 第46-49页 |
| ·电泳沉积碳纳米管实验 | 第49-52页 |
| ·电泳沉积原理 | 第49-50页 |
| ·电泳装置的设计 | 第50-51页 |
| ·电泳沉积实验 | 第51-52页 |
| ·碳纳米管薄膜表面形貌和场发射性能 | 第52-63页 |
| ·溶剂种类的影响 | 第52-54页 |
| ·电解质浓度的影响 | 第54-56页 |
| ·碳纳米管浓度的影响 | 第56-58页 |
| ·电泳电压的影响 | 第58-60页 |
| ·电泳时间的影响 | 第60-63页 |
| ·退火对薄膜场发射性能的影响 | 第63页 |
| ·温度和真空度对薄膜场发射性能的影响 | 第63-68页 |
| ·阴极温度的影响 | 第63-65页 |
| ·环境真空度的影响 | 第65-68页 |
| 第五章 平栅极结构碳纳米管薄膜场发射阴极 | 第68-71页 |
| ·阴极表面形貌和成分分析 | 第68-69页 |
| ·平栅极结构阴极场发射测试 | 第69-71页 |
| 第六章 结论 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第76-77页 |
