| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-13页 |
| 第一部分 化学发光法在药物分析中的应用研究进展 | 第13-45页 |
| 1 引言 | 第13-14页 |
| 2 药物分析中的化学发光体系 | 第14-32页 |
| ·鲁米诺化学发光体系 | 第14-17页 |
| ·过氧化氢作为氧化剂 | 第14-15页 |
| ·KMnO_4作为氧化剂 | 第15页 |
| ·K_3Fe(CN)_6作为氧化剂 | 第15-16页 |
| ·卤素氧化物作为氧化剂 | 第16页 |
| ·AuCl_4~-作为氧化剂 | 第16-17页 |
| ·KMnO_4化学发光体系 | 第17-19页 |
| ·Ce(Ⅳ)化学发光体系 | 第19-20页 |
| ·H_2O_2化学发光体系 | 第20-22页 |
| ·Fe(CN)_6~(3-)化学发光体系 | 第22页 |
| ·NBS-荧光素化学发光体系 | 第22-23页 |
| ·联吡啶钌化学发光体系 | 第23页 |
| ·其它化学发光反应 | 第23-32页 |
| 3 研究展望 | 第32-34页 |
| 参考文献 | 第34-45页 |
| 第二部分 酸性KMnO_4化学发光机理研究 | 第45-57页 |
| 1 引言 | 第45-50页 |
| ·发光体为激发态的锰或锰的络合物 | 第46-47页 |
| ·发光体为单线态氧的双分子复合物 | 第47-48页 |
| ·化学发光体为反应物或反应产物 | 第48-50页 |
| 2 实验部分 | 第50-51页 |
| ·仪器与试剂 | 第50页 |
| ·化学发光光谱测定 | 第50-51页 |
| 3 结果与讨论 | 第51-53页 |
| ·KMnO_4-头孢类抗生素-多聚磷酸化学发光体系化学发光光谱 | 第51页 |
| ·化学发光机理探讨 | 第51-53页 |
| 4 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 第三部分 酸性高锰酸钾化学发光体系在药物分析中的应用 | 第57-78页 |
| 第一章 流动注射化学发光法测定头孢唑啉钠 | 第57-63页 |
| 摘要 | 第57页 |
| 1.引言 | 第57页 |
| 2.实验部分 | 第57-58页 |
| ·仪器与试剂 | 第57-58页 |
| ·实验方法 | 第58页 |
| 3 结果与讨论 | 第58-62页 |
| ·反应介质及其浓度的影响 | 第58-59页 |
| ·高锰酸钾浓度的影响 | 第59-60页 |
| ·载液流速的影响 | 第60-61页 |
| ·工作曲线、精密度和检出限 | 第61-62页 |
| ·干扰实验 | 第62页 |
| ·样品测定 | 第62页 |
| 4 结论 | 第62-63页 |
| 第二章 直接化学发光法测定头孢菌素 | 第63-68页 |
| 摘要 | 第63页 |
| 1 引言 | 第63-64页 |
| 2 实验部分 | 第64页 |
| ·仪器与试剂 | 第64页 |
| ·实验方法 | 第64页 |
| ·分析测定系统 | 第64页 |
| 3 结果与讨论 | 第64-67页 |
| ·反应介质及其浓度的影响 | 第64-65页 |
| ·高锰酸钾浓度的影响 | 第65页 |
| ·干扰实验 | 第65-66页 |
| ·工作曲线、精密度和检出限 | 第66页 |
| ·样品测定 | 第66-67页 |
| 4 结论 | 第67-68页 |
| 第三章 酸性高锰酸钾化学发光体系间接测定头孢菌素 | 第68-78页 |
| 摘要 | 第68页 |
| 1 头孢噻肟钠的测定 | 第68-73页 |
| ·引言 | 第68页 |
| ·实验方法 | 第68-69页 |
| ·仪器与试剂 | 第68-69页 |
| ·头孢噻肟钠碱性水解产物的制备 | 第69页 |
| ·实验方法 | 第69页 |
| ·结果与讨论 | 第69-73页 |
| ·水解酸度的影响 | 第69-70页 |
| ·水解时间的影响 | 第70页 |
| ·反应介质及其浓度的影响 | 第70-71页 |
| ·高锰酸钾浓度的影响 | 第71页 |
| ·工作曲线、精密度和检出限 | 第71-72页 |
| ·干扰实验 | 第72页 |
| ·样品测定 | 第72-73页 |
| 2 头孢曲松钠的测定 | 第73-76页 |
| ·引言 | 第73页 |
| ·实验方法 | 第73-74页 |
| ·仪器与试剂 | 第73-74页 |
| ·头孢曲松钠碱性水解产物的制备 | 第74页 |
| ·实验方法 | 第74页 |
| ·结果与讨论 | 第74-76页 |
| ·水解条件的影响 | 第74页 |
| ·反应介质及其浓度的影响 | 第74页 |
| ·高锰酸钾浓度的影响 | 第74-75页 |
| ·干扰实验 | 第75页 |
| ·工作曲线、精密度和检出限 | 第75-76页 |
| ·样品测定 | 第76页 |
| 3 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 发表论文目录 | 第82页 |