低温ITO膜的制备及性能研究
| 摘 要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·ITO 膜的介绍 | 第9-11页 |
| ·ITO 膜的应用 | 第11-12页 |
| ·制备ITO 膜的国内外研究进展 | 第12-14页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第14-16页 |
| ·本论文的研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 ITO 膜的制备及测试 | 第17-38页 |
| ·磁控溅射镀膜原理 | 第17-22页 |
| ·实验装置 | 第22-25页 |
| ·ITO 膜的制备工艺流程 | 第25-27页 |
| ·ITO 膜的性能和结构测定 | 第27-37页 |
| ·本章总结 | 第37-38页 |
| 第三章 单层结构的ITO 膜 | 第38-56页 |
| ·正交试验法初步确定工艺参数 | 第38-41页 |
| ·制备ITO 膜工艺参数的优化 | 第41-42页 |
| ·ITO 膜的性能分析 | 第42-55页 |
| ·本章总结 | 第55-56页 |
| 第四章 复合结构的透明导电薄膜 | 第56-60页 |
| ·多层膜透过率的理论计算 | 第57页 |
| ·ITO/AG/ITO 复合膜的性能分析 | 第57-59页 |
| ·本章总结 | 第59-60页 |
| 第五章 OLED 器件的制备与测试 | 第60-67页 |
| ·OLED 器件制备的试验仪器 | 第60-61页 |
| ·OLED 器件的制备 | 第61-64页 |
| ·三种OLED 器件性能的比较 | 第64-66页 |
| ·本章总结 | 第66-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 附表 | 第73-74页 |
| 个人简历及发表的学术论文 | 第74页 |
