PZT铁电薄膜的疲劳与老化特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-15页 |
| ·铁电材料性质与研究历史 | 第9-10页 |
| ·铁电薄膜在存储器中的应用 | 第10-12页 |
| ·铁电薄膜疲劳特性与影响因素 | 第12-14页 |
| ·电极材料和铁电薄膜组分 | 第13页 |
| ·电场强度和频率 | 第13页 |
| ·薄膜厚度 | 第13-14页 |
| ·掺杂元素 | 第14页 |
| ·温度影响 | 第14页 |
| ·本文研究内容 | 第14-15页 |
| 第二章 PZT 铁电薄膜的制备与性能表征 | 第15-24页 |
| ·制备设备与方法 | 第15-18页 |
| ·溅射法 | 第15-16页 |
| ·激光脉冲淀积 | 第16页 |
| ·分子束外延 | 第16-17页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17-18页 |
| ·金属有机物分解法 | 第18页 |
| ·测试设备与方法 | 第18-24页 |
| ·结构测试 | 第19-20页 |
| ·表面分析 | 第20-21页 |
| ·铁电性能测试 | 第21-24页 |
| 第三章 PZT 铁电薄膜的疲劳特性研究 | 第24-49页 |
| ·疲劳研究现状 | 第24-26页 |
| ·有效电极面积的减小 | 第24-25页 |
| ·有效电场强度的降低 | 第25页 |
| ·电畴反转能力自身改变 | 第25-26页 |
| ·铁电薄膜疲劳机理 | 第26-32页 |
| ·各种条件对铁电薄膜疲劳的影响 | 第32-49页 |
| ·反转电压对疲劳的影响 | 第32-35页 |
| ·反转频率对疲劳的影响 | 第35-37页 |
| ·测试温度对疲劳的影响 | 第37-39页 |
| ·PUND 测试对疲劳的影响 | 第39-41页 |
| ·磁场对疲劳的影响 | 第41-46页 |
| ·晶粒尺寸对疲劳的影响 | 第46-49页 |
| 第四章 PZT 铁电薄膜的印迹特性研究 | 第49-66页 |
| ·印迹的研究现状 | 第49-50页 |
| ·铁电薄膜印迹机理 | 第50-55页 |
| ·印迹理论解释与实验验证 | 第50-53页 |
| ·薄膜厚度对印迹的影响 | 第53-54页 |
| ·退火温度对印迹的影响 | 第54-55页 |
| ·反转对印迹的影响 | 第55-59页 |
| ·印迹前反转对印迹的影响 | 第55-58页 |
| ·印迹后反转对印迹的影响 | 第58-59页 |
| ·矫顽场的偏移量随时间变化规律 | 第59-66页 |
| ·印迹的破坏性研究 | 第61-62页 |
| ·矫顽电压的漂移速率与偏移量 | 第62-66页 |
| 第五章 PZT 铁电薄膜矫顽场与晶粒尺寸关系 | 第66-72页 |
| ·模型建立 | 第66-69页 |
| ·实验与拟合 | 第69-72页 |
| 第六章 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
