| 第一章 绪论 | 第1-30页 |
| 1．1 纳米材料概述 | 第9-13页 |
| 1．1．1 纳米材料及纳米材料的性能 | 第9-10页 |
| 1．1．1．1 纳米材料及纳米技术 | 第9页 |
| 1．1．1．2 纳米材料的特性 | 第9-10页 |
| 1．1．2 纳米材料发展 | 第10-11页 |
| 1．1．2．1 国外纳米技术的发展现状 | 第10-11页 |
| 1．1．2．2 我国纳米技术的发展现状 | 第11页 |
| 1．1．3 纳米材料的应用及发展趋势 | 第11-13页 |
| 1．1．3．1 纳米材料的应用 | 第11-12页 |
| 1．1．3．2 纳米材料发展趋势 | 第12-13页 |
| 1．2 三氧化二铝多孔膜概述 | 第13-22页 |
| 1．2．1 铝阳极氧化纳米孔形成机理 | 第13-15页 |
| 1．2．2 三氧化二铝多孔膜的制备、性能及应用 | 第15-18页 |
| 1．2．2．1 三氧化二铝多孔膜的制备方法 | 第15-16页 |
| 1．2．2．2 三氧化二铝多孔膜的性能及应用 | 第16-18页 |
| 1．2．3 铝阳极氧化多孔膜的研究现状及发展前景 | 第18-22页 |
| 1．3 温差电材料概述 | 第22-28页 |
| 1．3．1 温差电材料工作原理 | 第22-23页 |
| 1．3．2 温差电材料研究历史及发展趋势 | 第23-24页 |
| 1．3．3 纳米技术在温差电材料中的应用 | 第24-28页 |
| 1．4 论文主要工作 | 第28-30页 |
| 第二章 实验方法 | 第30-42页 |
| 2．1 纳米孔阵列结构氧化铝多孔膜制备工艺 | 第30-32页 |
| 2．1．1 实验仪器 | 第30页 |
| 2．1．2 实验装置 | 第30-31页 |
| 2．1．3 阳极氧化工艺流程 | 第31-32页 |
| 2．1．3．1 试样形状及尺寸 | 第31页 |
| 2．1．3．2 工艺流程 | 第31-32页 |
| 2．2 氧化铝模板制备工艺 | 第32-36页 |
| 2．2．1 实验仪器设备 | 第33页 |
| 2．2．2 试样制备 | 第33-36页 |
| 2．2．2．1 工艺流程 | 第33页 |
| 2．2．2．2 PVD 方法蒸镀金属导电层 | 第33页 |
| 2．2．2．3 光刻蚀工艺 | 第33-36页 |
| 2．2．2．4 光刻蚀掩模板示意图 | 第36页 |
| 2．3 微区内电沉积铋碲纳米线阵列 | 第36-38页 |
| 2．3．1 实验仪器 | 第36-37页 |
| 2．3．2 实验装置 | 第37页 |
| 2．3．3 N 型电沉积溶液 | 第37页 |
| 2．3．4 电沉积试片的前处理流程 | 第37-38页 |
| 2．4 形貌、组成及结构分析 | 第38-39页 |
| 2．4．1 扫描电镜分析 | 第38-39页 |
| 2．4．1．1 氧化铝多孔模板制样 | 第39页 |
| 2．4．1．2 铋碲纳米线阵列制样 | 第39页 |
| 2．4．2 透射电镜分析 | 第39页 |
| 2．4．3 X 射线衍射分析 | 第39页 |
| 2．5 氧化铝薄膜的红外吸收分析 | 第39-40页 |
| 2．6 氧化铝多孔膜机械性能分析 | 第40页 |
| 2．7 铋碲纳米线阵列热电性能分析 | 第40-42页 |
| 第三章 有机添加剂对氧化铝纳米孔形成过程的影响 | 第42-54页 |
| 3．1 有机添加剂对阳极氧化过程的影响 | 第42-46页 |
| 3．1．1 草酸体系 | 第42-44页 |
| 3．1．2 硫酸体系 | 第44页 |
| 3．1．3 磷酸体系 | 第44-45页 |
| 3．1．4 讨论 | 第45-46页 |
| 3．2 有机添加剂对阻挡层形成电流密度的影响 | 第46-49页 |
| 3．2．1 草酸体系 | 第46-47页 |
| 3．2．2 硫酸体系 | 第47页 |
| 3．2．3 磷酸体系 | 第47-48页 |
| 3．2．4 讨论 | 第48-49页 |
| 3．3 有机添加剂对阻挡层形成时间的影响 | 第49-51页 |
| 3．3．1 草酸体系 | 第49页 |
| 3．3．2 硫酸体系 | 第49-50页 |
| 3．3．3 磷酸体系 | 第50页 |
| 3．3．4 讨论 | 第50-51页 |
| 3．4 有机添加剂对氧化铝膜稳定生长速度的影响 | 第51-54页 |
| 3．4．1 草酸体系 | 第51-52页 |
| 3．4．2 硫酸体系 | 第52页 |
| 3．4．3 磷酸体系 | 第52-53页 |
| 3．4．4 讨论 | 第53-54页 |
| 第四章 有机添加剂对阳极氧化铝多孔膜组织结构的影响 | 第54-63页 |
| 4．1 草酸体系阳极氧化多孔膜的 SEM 分析 | 第54-55页 |
| 4．2 有机添加剂对氧化铝多孔膜晶体结构的影响 | 第55页 |
| 4．3 有机添加剂对氧化铝纳米孔规整程度的影响 | 第55-57页 |
| 4．4 有机添加剂对氧化铝多孔膜组成的影响 | 第57-59页 |
| 4．5 氧化过程电解质的反应及其对氧化铝多孔膜的影响 | 第59-63页 |
| 第五章 氧化铝多孔膜的机械性能 | 第63-69页 |
| 5．1 铝基材状况对氧化铝多孔膜力学性能的影响 | 第63-66页 |
| 5．2 有机添加剂对氧化铝多孔膜力学性能的影响 | 第66-69页 |
| 第六章 氧化铝模板微区内铋碲纳米线阵列的电沉积过程分析 | 第69-78页 |
| 6．1 用于阴极电沉积的氧化铝模板的制备机形貌 | 第69-71页 |
| 6．1．1 氧化铝模板的形貌 | 第69页 |
| 6．1．2 氧化铝模板导电层的形貌 | 第69页 |
| 6．1．3 光刻蚀划分微区的形貌 | 第69-70页 |
| 6．1．4 去阻挡层后纳米孔的形貌 | 第70页 |
| 6．1．5 电沉积纳米线后的试片的结构 | 第70-71页 |
| 6．2 沉积电位对铋碲纳米线阵列电沉积过程的影响 | 第71-72页 |
| 6．2．1 阴极极化曲线 | 第71-72页 |
| 6．2．2 控电位沉积电流密度时间关系 | 第72页 |
| 6．3 氧化铝模板厚度对纳米线阵列电沉积过程的影响 | 第72-73页 |
| 6．3．1 不同厚度氧化铝模板阴极极化曲线 | 第72-73页 |
| 6．3．2 不同厚度氧化铝模板沉积纳米线电流密度时间关系 | 第73页 |
| 6．4 不同孔径氧化铝模纳米线电流密度时间关系 | 第73-74页 |
| 6．5 温度的影响 | 第74-75页 |
| 6．5．1 不同温度下氧化铝模板阴极极化曲线 | 第74-75页 |
| 6．5．2 不同温度下氧化铝模板沉积纳米线电流密度时间关系 | 第75页 |
| 6．6 微区面积的影响 | 第75-76页 |
| 6．6．1 不同微区面积氧化铝模板阴极极化曲线 | 第75-76页 |
| 6．6．2 不同微区面积氧化铝模板沉积纳米线电流密度时间关系 | 第76页 |
| 6．7 络合剂的影响 | 第76-78页 |
| 6．7．1 络合剂对阴极极化曲线 | 第76-77页 |
| 6．7．2 络合剂对称及纳米线的电流密度时间关系的影响．． | 第77-78页 |
| 第七章 铋碲纳米线阵列温差电性能的研究 | 第78-86页 |
| 7．1 电沉积条件对 N 型铋碲纳米线阵列温差电性能的影响 | 第78-82页 |
| 7．1．1 沉积电位的影响 | 第78-80页 |
| 7．1．2 模板厚度的影响 | 第80-81页 |
| 7．1．3 氧化铝模板纳米孔孔径的影响 | 第81-82页 |
| 7．2 电沉积条件对 N 型铋碲纳米线阵列电阻的影响 | 第82-86页 |
| 7．2．1 沉积电位的影响 | 第82-83页 |
| 7．2．2 模板厚度的影响 | 第83-84页 |
| 7．2．3 氧化铝模板纳米孔孔径的影响 | 第84-86页 |
| 第八章 结论 | 第86-89页 |
| 参考文献 | 第89-92页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
