| 内容提要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·磁光效应基本知识 | 第9-10页 |
| ·磁光记录、擦除和读出的基本原理 | 第10-12页 |
| ·磁光存储的发展现状及其未来展望 | 第12-13页 |
| ·本论文的组成 | 第13-14页 |
| 参考文献 | 第14-15页 |
| 第二章 磁性薄膜磁光特性的理论研究 | 第15-26页 |
| ·4×4矩阵法介绍 | 第15-22页 |
| ·界面等效层理论 | 第22-25页 |
| 参考文献 | 第25-26页 |
| 第三章 MnBi磁性多层膜磁光科尔效应的数值模拟 | 第26-37页 |
| ·MnBi系列多层膜的科尔旋转角和椭圆率随波长变化规律的数值模拟 | 第27-29页 |
| ·MnBi系列多层膜的科尔旋转角和椭圆率随磁性层厚度变化规律的数值模拟 | 第29-31页 |
| ·MnBi系列多层膜的科尔旋转角和椭圆率随入射角变化规律的数值模拟 | 第31-33页 |
| ·结论 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-37页 |
| 第四章 Co／Pt磁性多层膜磁光科尔效应的数值模拟 | 第37-44页 |
| ·Co／Pt多层膜的科尔旋转角和椭圆率随波长变化规律的数值模拟 | 第37-39页 |
| ·Co／Pt多层膜的科尔旋转角和椭圆率随入射角度变化规律的数值模拟 | 第39-40页 |
| ·Co／Pt多层膜的科尔旋转角和椭圆率随周期层数变化规律的数值模拟 | 第40-41页 |
| ·结论 | 第41页 |
| 参考文献 | 第41-44页 |
| 第五章 Ni_xSiO_(2(1-x))磁性颗粒膜磁光科尔效应的数值 | 第44-57页 |
| ·Ni_xSiO_(2(1-x))颗粒膜的磁光特性随入射光能量的变化关系 | 第44-47页 |
| ·Ni_xSiO_(2(1-x))颗粒膜的磁光特性随入射光的入射角度的变化关系 | 第47-48页 |
| ·Ni_xSiO_(2(1-x))颗粒膜的磁光特性随颗粒膜厚度的变化关系 | 第48-49页 |
| ·结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-57页 |
| 第六章 磁性多层膜界面特性对磁光科尔效应的影响 | 第57-67页 |
| ·引言 | 第57-58页 |
| ·多层膜系统[Co(0.3nm)／Pt(0.4nm)]×43／Glass(1.21mm)科尔谱随着入射光的波长变化的情况 | 第58-60页 |
| ·多层膜系统SiO(237nm)／MnBi(50nm)／Glass(0.21mm)科尔谱随波长变化的情况 | 第60-62页 |
| ·多层膜系统[Co(0.3nm)／Pt(0.4nm)]×43／Glass(1.21mm)科尔谱随媒质厚度的变化情况 | 第62-63页 |
| ·多层膜系统中界面混合层的磁化强度取向对磁光科尔效应的影响 | 第63-64页 |
| ·结论 | 第64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 第七章 结束语 | 第67-68页 |
| 在学期间发表的学术论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 中文摘要 | 第70-71页 |
