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轧制复合Cu/Mo/Cu电子封装材料的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 文献综述第9-25页
   ·电子封装材料的发展的历史背景第9-10页
   ·电子封装材料的定义和性能要求第10-11页
   ·传统封装材料和新型封装材料的对比第11-13页
   ·电子封装复合材料的分类和研究第13-14页
   ·金属基电子封装复合材料第14-16页
     ·颗粒增前型的金属基电子封装材料第15页
     ·纤维增强型金属基电子封装材料第15-16页
     ·金属基平面复合型电子封装材料第16页
   ·平面复合型电子封装材料的制备方法第16-21页
     ·典型制备方法第16-19页
     ·新的制备方法第19-21页
   ·复合层板电子封装材料的研究状况第21-24页
   ·结束语第24-25页
第二章 实验及分析过程第25-33页
   ·Cu/Mo/Cu电子封装材料的研制意义和制备方法选择第25-26页
   ·实验及分析过程图第26-27页
   ·制备及分析的详细过程第27-29页
     ·不同表面处理方法对钼铜界面结合强度的影响第27-28页
     ·不同轧制温度的选择第28页
     ·不同热轧变形率的确定第28页
     ·不同退火温度的确定第28页
     ·后继加工方法的研究第28-29页
     ·复合材料理论性能的计算和实测值的对比分析第29页
   ·复合层板的性能检测说明第29-33页
     ·复合层板界面剪切强度的测量第29页
     ·弯曲性能第29-30页
     ·抗拉强度第30页
     ·热膨胀系数第30-31页
     ·复合层板的平面电导率第31页
     ·复合层板的垂直平面热导率第31-32页
     ·显微硬度和金相第32页
     ·扫描电镜二次电子象和背散射电子象以及线扫描第32-33页
第三章 实验结果分析与讨论第33-56页
   ·表面处理方法的确定第33-41页
     ·材料的微观组织观察与结合机制分析第33-37页
     ·不同表面处理方法对复合层板力学性能的影响第37-39页
     ·不同表面处理方法所制备的复合层板的电导率、热导率和热膨胀系数第39-41页
     ·小结第41页
   ·加工温度和初道次变形率的确定第41-46页
     ·轧制温度的选择及其对材料性能的影响第41-44页
     ·初道次变形率对材料性能的影响第44-45页
     ·轧制参数对复合界面的结合机制的影响第45-46页
     ·小结第46页
   ·退火温度的讨论第46-51页
     ·不同退火温度的复合层板的微观组织观察和分析第46-49页
     ·不同退火温度对Cu/Mo/Cu复合层板的力学性能的影响第49-50页
     ·不同退火温度对Cu/Mo/Cu复合层板的导电和导热性能的影响第50-51页
     ·小结第51页
   ·后继加工方法的研究第51-56页
     ·复合层板的微观组织观察第51-53页
     ·不同后继加工方法对复合层板的力学性能的影响第53-54页
     ·不同后继加工方法对复合层板的电导率的影响第54-55页
     ·小结第55-56页
第四章 复合材料性能理论计算和实测值的对比研究第56-65页
   ·厚度比规律的确定第56-59页
   ·包覆率的确定第59页
   ·复合层板平面电导率的计算与实测值比较第59-61页
   ·复合层板垂直层板平面方向热导率的计算与实测值比较第61-62页
   ·复合层板平面热膨胀系数的计算与实测值的比较第62-64页
   ·结论第64-65页
第五章 结论第65-66页
参考文献第66-71页
致谢第71页

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